Occasion NOVELLUS Concept 3 Altus #293638913 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Altus est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production de semi-conducteurs. Il utilise un procédé thermique renforcé par plasma pour déposer une variété de films diélectriques et métalliques sur des substrats tels que des plaquettes semi-conductrices. L'Altus intègre des fonctionnalités avancées pour améliorer les performances, la livraison de vapeur, et l'uniformité, permettant une couche précise des films minces. L'Altus est alimenté par une source RF qui maintient un plasma à base d'argon ou d'hélium dans la chambre du réacteur. Le substrat est exposé aux micro-ondes, générant de la chaleur qui s'évapore et décompose les précurseurs en molécules de taille super atomique. Ces super-atomes parcourent le substrat chauffé, se fixant sur des atomes préalablement déposés, et formant un film pair d'épaisseur uniforme. L'Altus offre un contrôle avancé des paramètres du procédé, fournissant une alimentation pulsée et une tension de polarisation réglable pour fournir une gravure de précision, un dépôt de film uniforme et un débit amélioré. L'échange rapide de précurseurs minimise également la contamination entre les différentes séquences. L'Altus bénéficie également d'un design de chambre unique qui se traduit par une meilleure uniformité, avec un assemblage de brosse à changement rapide pour un nettoyage de précision. L'Altus dispose d'un certain nombre de dispositifs de sécurité pour protéger le système contre la surchauffe et l'utilisateur contre les dangers potentiels. Il dispose d'un système de contrôle CPU avec entrées et sorties analogiques et numériques pour une intégration facile dans les systèmes et applications existants. De plus, l'unité fonctionne via un bras robotique à tête multiple avancé pour une plus grande précision et flexibilité. Concept 3 Altus est idéal pour des applications avancées et exigeantes dans l'industrie de la production de semi-conducteurs, offrant un dépôt de film efficace et uniforme, des capacités de nettoyage et de sécurité avancées, et un contrôle avancé des couches et des procédés. Ce réacteur fiable et très polyvalent est un excellent investissement pour les usines et autres installations de production.