Occasion NOVELLUS Concept 3 Altus #9316137 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor est un équipement de dépôt multifonctionnel performant utilisé pour le dépôt dynamique de films dans diverses applications industrielles. Le réacteur dispose d'un système optique avancé non-ligne de site conçu pour permettre la stabilité du procédé, la fiabilité et la répétabilité des résultats. Concept 3 Le réacteur Altus se compose d'une source d'ions, d'une chambre à plasma, d'une chambre de pré-nettoyage et d'une chambre de dépôt avec une unité de chauffage à 4 zones de 10 étages. Les configurations des plaquettes sont optimisées pour maximiser la diffusion thermique et minimiser les gradients de température, assurant la cohérence et la précision du processus. La source d'ions est conçue pour générer des ions énergétiques qui sont utilisés pour graver des substrats et/ou créer des densités de plasma qui font interagir les particules dans la chambre de plasma avec le substrat. Cette interaction forme des couches minces par des procédés de dépôt en phase vapeur qui sont utilisés pour enrober les matériaux. La chambre à plasma est utilisée pour créer et maintenir des plasmas à des températures élevées qui maintiennent les particules en phase gazeuse pendant qu'elles parcourent un chemin cylindrique jusqu'au substrat. La chambre de pré-nettoyage est utilisée pour éliminer les contaminants avant le dépôt, et la machine de chauffage à 4 zones à 10 étages est conçue pour assurer la stabilité du procédé et une température uniforme. NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor est conçu pour assurer une intégration exceptionnelle entre les modules de gravure et de dépôt et les capacités de contrôle automatisé. Il est capable d'effectuer des gravures à haute résolution, des dépôts chimiques en phase vapeur, des dépôts de couche atomique et des procédés de pulvérisation. Ses systèmes avancés de commande de mouvement facilitent le contrôle simultané de jusqu'à 16 étages de plaquettes indépendants, ce qui est essentiel pour le contrôle de processus de tolérance étroite et l'uniformité des produits. Concept 3 Le réacteur Altus est un choix idéal pour une variété de procédés de dépôt industriel. Il offre des capacités hautes performances, la stabilité du processus, et des résultats fiables avec des performances répétables. Ses systèmes avancés de contrôle de mouvement et de régulation précise de la température en font une solution rentable pour toute application industrielle de dépôt de films.