Occasion NOVELLUS Concept 3 Altus #9375600 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Altus est un équipement de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à volume moyen utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour le dépôt de films à base de silicium, épitaxiés ou polycristallins. Le concept 3 Altus a été élaboré pour améliorer les capacités existantes des réacteurs CVD, en mettant l'accent sur la maximisation de la capacité, de la flexibilité et du débit. Les caractéristiques innovantes du système du réacteur comprennent sa conception brevetée à double chambre, qui optimise le débit de l'unité. La conception de la machine repose sur la technologie brevetée Dual Chamber Technology (DCT), qui utilise une topologie de mise en page multi-zones. Cette disposition permet une utilisation plus efficace de l'espace de la chambre de réaction par deux mini-chambres auto-ajustables indépendantes partageant la surface à l'intérieur de la chambre principale. En séparant la chambre de réaction, NOVELLUS Concept 3 Altus capitalise sur un certain nombre de capacités de processus précieuses, tout en réduisant le nombre d'étapes de processus nécessaires. En combinant la trempe gazeuse et la régénération réactive dans une seule zone réactionnelle, on élimine bon nombre des défis typiques des réacteurs CVD tels que la non-uniformité et la non-répétabilité des procédés de dépôt. Concept 3 Altus est équipé d'un certain nombre d'autres fonctionnalités conçues pour maximiser les performances des réacteurs et des procédés. L'outil est capable d'effectuer des étapes avancées de procédé telles que la vaporisation à haute température et la pré-pulvérisation pour améliorer l'uniformité du film et la répétabilité du procédé. De plus, l'actif est équipé d'une capacité unique de mélange de gaz qui permet à deux gaz de processus de fusionner d'une manière soigneusement réglementée, améliorant encore la précision et la répétabilité du processus. Les capacités avancées de NOVELLUS Concept 3 Altus, combinées à son design robuste, lui permettent d'offrir des performances et une fiabilité exceptionnelles dans une plate-forme CVD standard de l'industrie. En utilisant la technologie de chambre dynamique brevetée, le Concept 3 Altus offre une uniformité de débit et de film supérieure par rapport aux systèmes CVD classiques. De plus, le modèle du réacteur utilise un certain nombre de caractéristiques avancées telles que le mélange de gaz, la vaporisation à haute température et le pré-pulvérisation pour optimiser les performances du procédé de dépôt. Dans l'ensemble, NOVELLUS Concept 3 Altus est un équipement CVD innovant qui offre une performance, une flexibilité et un débit optimaux.