Occasion NOVELLUS Concept 3 Inova #293638672 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Inova est un réacteur semi-conducteur multi-outils à six chambres conçu pour les procédés avancés de gravure, de dépôt, d'implantation et de recuit de circuits intégrés tridimensionnels. Il combine la flexibilité de capacités de processus étendues avec un grand design de chambre capable de livraison de pouvoir de 6 kW. Concept 3 Inova dispose d'une géométrie brevetée de chambre de compensation de dérive, conçue pour fournir à la fois l'uniformité du plasma et la densité de puissance qui sont simultanément optimisés pour les meilleurs résultats des processus à haut débit et à haut rendement. Le module dispose de plusieurs modes de balayage permettant à l'utilisateur de personnaliser la cavité de processus pour obtenir les meilleurs résultats. NOVELLUS Concept 3 Inova peut prendre en charge les configurations de grappes de plaquettes et de plaquettes. Il dispose d'un sas horizontal pouvant contenir jusqu'à 13 et 28 plaquettes uniformes de 200mm ou 300mm respectivement, ce qui lui permet d'atteindre une productivité et une efficacité élevées. Le sas utilise également une technologie de récupération de broches, qui réduit toute charge statique accumulée pendant le transfert, afin de minimiser les effets de particules induites par le rayonnement. Les procédés de gravure pour le Concept 3 Inova comprennent les procédés de gravure humide, sèche et plasmatique. Les systèmes de gravure sèche peuvent fournir des taux de sélectivité élevés, avec différentes configurations pour convenir à un large éventail de matériaux, la taille des caractéristiques et les couches de processus. Les procédés de gravure humide offrent une flexibilité supplémentaire et des avantages à faible coût, mais nécessitent un contrôle supplémentaire afin d'obtenir des résultats de haute précision. Le système de gravure plasma offre un débit très élevé et est particulièrement adapté pour des volumes importants. Les systèmes FECVD et PECVD sont également inclus avec NOVELLUS Concept 3 Inova. La première offre des capacités de dépôt robustes avec une faible consommation électrique, tandis que la seconde offre des options de processus standard pour la plupart des matériaux, tels que le silicium PECVD, le nitrure PECVD, et l'oxyde PECVD. Concept 3 Inova comprend également des systèmes de degré de cristal et des systèmes de recuit qui peuvent être configurés pour répondre à une gamme d'exigences de processus allant du recuit à basse température au recuit à haute température. Il offre également une capacité d'implant avec une gamme d'énergies de faisceau configurables et des paramètres de géométrie d'implant pour la meilleure qualité de plaquette sacrificielle réalisable. Afin de faciliter la surveillance continue des processus, NOVELLUS Concept 3 Inova comprend un système de diagnostic embarqué. Cela comprend une gamme de capteurs pour mesurer tous les paramètres critiques, ainsi que des contrôles de suivi et de rétroaction sophistiqués. Il comprend également une variété d'options d'analyse de gaz in situ, permettant aux utilisateurs de détecter et d'analyser des particules potentiellement nocives au cours d'un cycle de processus.