Occasion NOVELLUS Concept 3 Inova #293638673 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Inova est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) cristallin utilisé pour le dépôt d'espèces chimiques sur un substrat. Le procédé de dépôt est généralement réalisé dans une chambre à vide et est idéal pour créer une variété de matériaux semi-conducteurs et connexes. L'objectif du concept 3 réacteur Inova CVD est de permettre le dépôt de matériaux de haute qualité avec une faible densité de défauts et un dépôt uniforme à des températures relativement basses. L'Inova a une conception modulaire à deux sources de deux douches, avec entrées et sorties automatiques, obtenant ainsi un débit plus élevé que les réacteurs traditionnels. Sa conception modulaire flexible permet à la fois des orientations verticales et horizontales des plaquettes, ainsi qu'une variété de systèmes de distribution de gaz et d'échappement. Avec son design innovant, l'Inova est capable d'exécuter une variété de recettes d'intégration de processus. Le réacteur CVD utilise une variété de gaz de procédé et a une excellente plage de régulation de température qui peut être ajustée pour maximiser la qualité du matériau déposé. NOVELLUS Concept 3 Inova est adapté à l'optimisation des processus car il est équipé d'une fenêtre d'entrée en quartz, d'un système de chauffage avancé et d'autres équipements spécialisés qui assurent une plage de température optimale et une uniformité pour un processus donné, éliminant la nécessité d'autres ajustements de processus. De plus, sa conception d'électrodes multiples, son chargement et son déchargement automatiques et ses fonctionnalités automatisées permettent d'adapter les recettes aux besoins du client. Le réacteur CVD Inova est conçu pour des dépôts de grande surface/petite surface et des dépôts conformes de matériaux pour une variété d'applications optoélectroniques, de nanofabrication et de MEMS. Avec des fonctionnalités avancées telles que la capacité à haute température, la détection en temps réel du point d'arrêt et le contrôle de la qualité, l'Inova est un choix idéal pour les clients qui nécessitent des réacteurs CVD haute performance. Le système est équipé d'une tête de douche directe, permettant un contrôle précis du processus et des temps de réponse rapides. Il est également entièrement capable de nettoyage in situ, permettant une qualité de film supérieure et un contrôle d'uniformité de dépôt. Dans l'ensemble, Concept 3 Inova est un système de réacteur CVD de pointe qui fournit des performances de dépôt supérieures et d'excellentes capacités de contrôle de qualité. Le réacteur est extrêmement polyvalent et offre une grande flexibilité, ce qui en fait une solution idéale pour une variété d'applications de dépôt de semi-conducteurs et de matériaux avancés.