Occasion NOVELLUS Concept 3 Inova #9281509 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Inova est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) compatible avec le plasma, conçu pour le dépôt in situ de couches de couches minces sur différents substrats. Il est spécifiquement développé pour un procédé avancé de dépôt en couches minces sur un large éventail de substrats sans nécessiter d'étapes supplémentaires de traitement post-dépôt. Le concept 3 Inova est munie avec une technologie « ZoneLock » faite breveter qui offre la précision de température et le contrôle pour les capacités étendues, dressant le portrait du processus à travers les gaufrettes multiples. Le réacteur CVD se compose de trois chambres différentes : une chambre d'introduction, une chambre de procédé et une chambre d'évacuation. La chambre d'introduction est utilisée pour pré-conditionner les substrats, tandis que la chambre de procédé est la principale zone de traitement, où les matériaux sont exposés à des réacteurs à haute température et au gaz de procédé. La chambre d'élimination est utilisée pour éliminer en toute sécurité les réactifs, les fumées et les sous-produits gazeux qui n'ont pas réagi. L'environnement de réaction dynamique de NOVELLUS Concept 3 Inova est créé par une technologie unique de « zone plasma ». Il s'agit d'une zone de gazéification ultra-active dans laquelle les substrats et les réactifs sont baignés dans un champ plasma de haute énergie permettant une réaction et un dépôt précis des matériaux. Les gasifications réactives, telles que le fluor et l'oxygène, sont créées et contrôlées par des jets supersoniques hautement régulés, mais dynamiques. Les technologies avancées de contrôle des zones plasmatiques permettent également un contrôle supérieur du dopage et un dépôt uniforme sur des géométries complexes. Concept 3 Inova a également une conception rotative spéciale qui améliore encore l'uniformité entre les couches. La conception rotative offre une large gamme de tailles de substrat et peut supporter des plaquettes jusqu'à 300 mm (12 pouces) de diamètre. L'ensemble du système est enfermé dans une chambre d'environnement qui est conçue pour exiger la précision et le contrôle tout au long du cycle de dépôt. NOVELLUS Concept 3 Système Inova CVD regroupe plusieurs technologies de pointe pour fournir un dépôt de classe mondiale avec une uniformité et un contrôle de procédé supérieurs. Ce réacteur CVD élargit les capacités de la famille de produits NOVELLUS et offre aux utilisateurs un procédé économique et fiable permettant la fabrication de dispositifs avancés. Il est idéal pour des applications de dépôt précises sur différents substrats, tels que les matériaux semi-conducteurs supraconducteurs, l'optique de précision et les systèmes microélectromécaniques (MEMS).