Occasion NOVELLUS Concept 3 Speed Max #9352258 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS Concept 3 Speed Max est un équipement de pointe de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui est utilisé pour déposer des couches minces de matériaux sur des substrats. Le système est conçu pour déposer des diélectriques, des métaux et d'autres matériaux à des vitesses élevées et uniformité, permettant la production de dispositifs de haute performance. Cette unité utilise une technologie polyvalente de sources multi-zones pour améliorer l'homogénéité et le contrôle des paramètres à travers le substrat. La machine se compose d'une seule plate-forme tout-en-un composée de trois étages. La première étape est la source de plasma Radio Frequency (RF), qui se compose d'une source de décharge de plasma, d'une grille de plasma multi-zone couplée capacitivement RF, et d'un aimant multi-zone pour un meilleur contrôle de l'homogénéité. La deuxième étape est la chambre CVD, qui contient une tête chauffante de chambre en plaquettes, une tête de dépôt et un échantillonneur de phényle. La tête chauffante de la chambre de plaquette est utilisée pour chauffer la plaquette afin d'assurer un dépôt uniforme du matériau. La tête de dépôt contient la source de procédé qui est utilisée pour introduire le matériau dans l'enceinte à la vitesse désirée. L'échantillonneur de phényle est utilisé pour mesurer la concentration du réactif et pour surveiller le processus de dépôt. La source de plasma RF, la chambre CVD et l'échantillonneur de phényle travaillent ensemble pour fournir à Concept 3 Speed Max une performance de dépôt optimisée. L'ensemble de l'outil est conçu pour des débits élevés et un dépôt très uniforme de couches minces, permettant une répétabilité et un contrôle exceptionnels du processus. En outre, l'actif offre également des temps de cycle de moins d'une minute par plaquette, ce qui en fait une solution rentable pour un large éventail de besoins de production. NOVELLUS Concept 3 Speed Max est un excellent choix pour ceux qui cherchent à améliorer leur efficacité de production. Sa combinaison de source de plasma RF, de chambre CVD et de l'échantillonneur de phényle fournit une plate-forme puissante pour réaliser des dispositifs de haute performance grâce à un dépôt supérieur et contrôlé de couches minces. Les temps de cycle, la contrôlabilité, la répétabilité et l'homogénéité du modèle en font une solution idéale pour toute situation de dépôt de film.