Occasion NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9170857 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT est un réacteur conçu pour des applications avancées de dépôt en couches minces. Ce réacteur est doté d'une technologie de pointe qui permet un contrôle précis de la croissance des couches minces et du revêtement conforme. Concept 3 Le réacteur NEXT offre trois zones de dépôt distinctes pour répondre à une variété de besoins et de configurations flexibles. La première de ses trois zones de dépôt présente sur le réacteur est la zone de dépôt primaire. C'est une zone de faible puissance avec des recettes de dépôt métallique personnalisables et des revêtements conformes. La zone de dépôt primaire comprend une combinaison unique d'étapes de procédé qui permettent un contrôle précis tout en optimisant l'uniformité de l'épaisseur du film et la couverture des étapes. Il est capable de dépôt à l'échelle Pico/Nano et peut déposer/graver des couches de barrière et d'adhérence, des couches sources et des structures métalliques complexes. La deuxième zone de dépôt, la zone de traitement de surface, fournit des modifications de surface en temps réel et des couches d'adhérence pour améliorer les propriétés de croissance des films. La zone comprend une gravure ionique réactive, des traitements de surface complets, des traitements de surface sélectifs et des traitements de surface avant dépôt. Il est conçu pour obtenir des résultats supérieurs tout en conservant des caractéristiques de revêtement conformes. La troisième et dernière des zones de dépôt figurant sur NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT est la zone de dépôt élevé. Cette zone de dépôt offre le taux de dépôt élevé très nécessaire, ce qui permet de répondre aux besoins de dépôt les plus exigeants. La zone à haut débit de dépôt est conçue pour déposer des films épais et offrir une uniformité et une couverture d'étape cohérentes et fiables. Concept 3 Speed NEXT est capable de traiter une variété d'applications de dépôt en couches minces, des composants automobiles aux semi-conducteurs, aux écrans plats, à l'optoélectronique, au MEMS, ainsi qu'aux applications médicales, aérospatiales et énergétiques. Le réacteur fournit une architecture intégrée en couches minces avec des capacités supérieures de contrôle des processus et d'uniformité pour maximiser le débit et les performances. C'est la solution idéale pour ceux qui recherchent des applications avancées de dépôt en couches minces.