Occasion NOVELLUS Concept 3 Speed #293592759 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Speed est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance utilisé dans les industries semi-conductrices et photovoltaïques. Il offre un chargement et un déchargement de substrat plus rapides, ainsi qu'un débit accru et une meilleure uniformité de processus. Concept 3 Speed comporte trois étapes de traitement, chacune conçue pour produire des résultats différents des processus CVD. La première étape consiste en un générateur de plasma et un creuset à commande carrousel qui permet un chargement automatisé du substrat. Cette étape permet d'assurer un revêtement homogène du matériau désiré en contrôlant le gaz utilisé dans la réaction plasma. La deuxième étape est conçue pour le dépôt à haut débit et utilise une tête de douche blindée multi- UT™ (uniformément effilée). Cette tête de douche est conçue pour assurer une répartition précise et uniforme des gaz de dépôt, conduisant à des taux de dépôt de film plus rapides et plus élevés. Enfin, la troisième étape est utilisée pour permettre le dépôt à haut débit et le refroidissement rapide des substrats. Il est composé d'une chambre de refroidissement, qui refroidit directement la surface du substrat pour permettre le refroidissement du film et la baisse des températures du matériau. Cela aide à réduire le risque de surchauffe, qui peut conduire à des résultats indésirables. En outre, le troisième étage comporte également un système basse pression qui évacue les gaz présents dans le volume intérieur de la chambre pour maintenir la pureté de la chambre. En conclusion, NOVELLUS Concept 3 Speed est un réacteur CVD avancé et performant qui permet un chargement et un déchargement rapides des substrats, un meilleur débit et une meilleure uniformité des procédés. Il est composé de trois étages, chacun conçu pour des fonctions différentes mais essentielles afin de fournir un revêtement précis et cohérent pour tout substrat pendant le processus CVD.