Occasion NOVELLUS Concept 3 Vector Express #293641738 à vendre en France

NOVELLUS Concept 3 Vector Express Reactor est un équipement révolutionnaire de dépôt physique en phase vapeur (PVD) qui utilise des atomes ou des ions ionisés pour déposer des revêtements ultra-minces de matériaux sur différentes surfaces. Les sections du réacteur comprennent une source d'ions et des chambres de pulvérisation magnétron, et sont alimentées par des générateurs à double fréquence radio (RF) et un puissant générateur d'impulsions. La source d'ions permet la création de gaz ionisé à partir de composants tels que l'azote, l'argon et d'autres gaz inertes. Les chambres de pulvérisation magnétron utilisent alors ces ions pour pulvériser des cibles constituées de matériaux spécifiques. Les matériaux déposés peuvent aller du cuivre ou de l'aluminium au tungstène, au molybdène, au titane ou à d'autres métaux et alliages. Le réacteur Vector Express est un équipement de haute précision. Il est doté d'un générateur à double cible et est capable de déposer plusieurs matériaux d'épaisseur variable sur des substrats. La fonction double cible permet d'utiliser deux matériaux cibles simultanément tandis que les épaisseurs exactes de couche sont contrôlées avec un logiciel de bureau. L'épaisseur du revêtement peut être contrôlée avec précision jusqu'à une résolution d'un nanomètre. Le réacteur Vector Express utilise également un système avancé de porte-substrat multi-surfaces. Cette unité de support peut être ajustée en fonction du type de matériau déposé, assurant un dépôt uniforme des films. La machine porteuse peut également être utilisée pour alimenter l'ionisation localisée sur le substrat. On obtient ainsi un dépôt de revêtement homogène et homogène. Bien que le réacteur Vector Express soit un outil hautement capable, sa complexité et son coût de possession élevé conviennent le mieux aux environnements de production plus grands. Ce réacteur de dépôt spécialisé est bien adapté à la production à grande échelle de films présentant des caractéristiques de film optimales et des débits élevés. Son contrôle numérique de l'épaisseur de la couche et de l'ionisation locale combustible sont également idéales pour la fabrication de semi-conducteurs, MEM, LED, et de dispositifs optiques.