Occasion NOVELLUS CONCEPT 3 #293644795 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 3 est un réacteur de haute performance, PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) conçu pour les procédés de dépôt et de gravure, principalement dans l'industrie des semi-conducteurs. Cet outil est un outil de dépôt très précis et puissant pour les composants de lentilles à grand volume et à grande surface. CONCEPT 3 utilise une architecture de chambre de réacteur unique qui dispose de quatre espaces positionnés indépendamment. Chacun de ces espaces peut contenir indépendamment des processus CVD distincts et/ou des processus de gravure. Le résultat de cette conception unique est que quatre modules de processus peuvent être exécutés simultanément, ce qui permet des temps de débit plus rapides et une grande uniformité des processus. Le réacteur PECVD utilise divers procédés de gravure pour des besoins particuliers, y compris la gravure à plasma à couplage inductif (ICP Etch) et la gravure ionique réactive (RIE). Ceci est conçu pour faciliter le dépôt et la gravure de revêtements filmogènes uniformes et précis sur de grandes plaquettes et composants multicouches. NOVELLUS CONCEPT 3 est équipé d'un logiciel avancé d'automatisation et de contrôle des processus qui permet aux utilisateurs d'optimiser leurs paramètres de processus à la volée. Les utilisateurs peuvent configurer l'ensemble du processus avec quelques étapes simples et changer rapidement les conditions de processus au milieu d'une course donnée pour améliorer l'efficacité de leur production. Le résultat final est une meilleure qualité, des temps de production plus rapides et des coûts de production réduits grâce à un contrôle plus précis du substrat. Le CONCEPT 3 dispose également d'un système unique de « refroidissement hybride » qui assure un contrôle de température flexible sur chacune des quatre chambres. Cette fonctionnalité rend l'outil incroyablement polyvalent et permet des températures plus élevées pour une gravure plus rapide de matériaux plus durs ou des températures plus basses pour un travail de gravure délicat. Elle permet également d'éviter les déformations du substrat dues à des différences de température extrêmes entre les différentes chambres. Dans l'ensemble, NOVELLUS CONCEPT 3 est un outil avancé et polyvalent de réacteur PECVD qui est conçu pour assurer un dépôt rapide de plaquettes et composants multicouches avancés. Il dispose d'une architecture de chambre innovante qui peut loger indépendamment plusieurs processus, l'automatisation et le contrôle des processus avancés, et un système de refroidissement hybride qui fournit un meilleur contrôle de la température. Toutes ces caractéristiques font de CONCEPT 3 un choix idéal pour le dépôt rapide et précis de composants de grande surface.