Occasion NOVELLUS CONCEPT 3 #293644796 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 3 est un réacteur planaire avancé PECVD (dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma) conçu pour fournir des performances supérieures de dépôt de film. Ce système est optimisé pour le dépôt ultra-mince et la modification du nitrure de silicium, des oxynitrures de silicium et des oxydes de silicium avec une excellente uniformité et qualité de film. Grâce à sa compatibilité bifréquence unique, CONCEPT 3 permet un meilleur contrôle de la densité des particules et des performances de film supérieures aux systèmes classiques. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 3 est composé d'une chambre de traitement avancée, multi-fréquence PECVD et d'un réseau d'appariement RF. Le réseau d'adaptation RF est conçu pour assurer une adaptation d'impédance optimale entre le générateur de puissance et la chambre de traitement, et est réglable pour la résonance parallèle et série ainsi que pour les basses et hautes fréquences. En plus d'éliminer les points chauds et d'adapter l'impédance pour améliorer l'uniformité et la répétabilité des processus, cette conception de réseau RF adapté améliore le rendement énergétique et réduit les coûts de propriété. La chambre de procédé de CONCEPT 3 est équipée d'un générateur RF haute densité et d'un système d'excitation à double fréquence pour générer simultanément des ondes basse et haute fréquence. Ceci contribue à préserver l'intégrité du plasma du procédé tout en entraínant une croissance rapide et uniforme du film à la surface du substrat. Cette disposition à deux fréquences contribue également à réduire la vitesse de gravure externe et empêche la libération de particules indésirables lors des étapes de gravure ionique réactive (RIE). Le système autonome PECVD ainsi que la chambre de traitement spécialement conçue et conforme au code ont été rigoureusement testés pour leur fiabilité et leur longévité. La conception robuste garantit des performances optimales sur une gamme de divers procédés et applications industriels. NOVELLUS CONCEPT 3 dispose également de commandes de grappes tactiles, d'une gestion des applications en ligne et de puissantes capacités de diagnostic et de suivi des recettes. Dans l'ensemble, CONCEPT 3 est l'un des systèmes PECVD les plus avancés sur le marché, offrant un contrôle de processus supérieur, des performances répétables et un dépôt de film efficace. Il est idéal pour une grande variété de procédés de dépôt, tels que le dépôt de couches ultra-minces, le dépôt de masques durs, le bétonnage et la formation de couches métalliques/diélectriques. Sa combinaison de fonctionnalités puissantes, de technologie avancée et de conception conviviale fait de NOVELLUS CONCEPT 3 une solution PECVD fiable et efficace pour tout environnement de fabrication moderne.