Occasion NOVELLUS CONCEPT 3 #9262617 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 3 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de production doté d'une technologie plasma de pointe pour répondre aux exigences de la fabrication de semi-conducteurs haut de gamme. Le réacteur CONCEPT 3 est spécialement conçu pour les matériaux avancés et les procédés de dépôt liés à la complexité élevée des dispositifs, aux films diélectriques, aux diverses couches d'oxyde thermique et aux diélectriques à faible intensité qui nécessitent des rendements de première génération sophistiqués et une faible production de défauts. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 3 est capable de manipuler des plaquettes jusqu'à 300mm en taille et avec des options de puissance plasma variable, avec des capacités de puissance élevées jusqu'à un maximum de 1000W. Sa conception est basée sur une électrode de polarisation verticale intégrée qui présente une ionisation plasma innovante qui favorise une décharge plasma stable et uniforme. Une couche d'oxyde de grille de terre rare (REE) assure une plus grande uniformité et stabilité. CONCEPT 3 utilise une gamme de systèmes de contrôle automatisés conçus pour s'assurer que les recettes de dépôt restent dans des fourchettes de tolérance et de cible données. Grâce à l'utilisation de capteurs intelligents, l'uniformité et la surveillance continue des paramètres du vide et du plasma sont assurées. Ces contrôles offrent un environnement de dépôt sûr et fiable pour assurer la cohérence et la fiabilité. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 3 est conçu pour des vitesses de dépôt rapides, des niveaux élevés de teneur en métal et une compatibilité avancée des substrats. Il peut accueillir une grande variété de sources de matériaux, y compris une sélection de films d'oxyde de haute qualité, nitrures, silicures, carbures de tungstène, et des métaux tels que le molybdène, le tantale et le tungstène. Le réacteur est capable de préconditionner des substrats et de générer un contrôle étanche des procédés. Ce réacteur offre également un excellent contrôle de la température et l'optimisation des performances, avec une uniformité de température élevée, des taux de rampe thermique rapides et des résultats de processus reproductibles. CONCEPT 3 est capable de créer des profils de gravure uniformes et dispose d'une source de plasma triple fréquence brevetée, permettant un rétrécissement avancé des trous, un dépôt de grains hémisphériques sans vide et une adhésion accrue du film. Les autres caractéristiques comprennent un générateur de plasma de haute uniformité, une source de planarisation intégrée, un contrôle de processus en boucle fermée et une automatisation avancée. En résumé, NOVELLUS CONCEPT 3 est un réacteur CVD de production conçu pour répondre à des exigences de fabrication exigeantes liées à un débit élevé, à des rendements initiaux et à une faible production de défauts. Il peut traiter des plaquettes jusqu'à 300mm en taille et dispose d'options de puissance variable, une couche d'oxyde de grille de terre rare, et des systèmes de contrôle automatisé pour un dépôt sûr et fiable. CONCEPT 3 est optimisé pour le préconditionnement des substrats et l'obtention d'un contrôle de processus serré, ainsi que des vitesses de rampe thermique rapides, des sources de plasma triple fréquence, et une automatisation avancée.