Occasion NOVELLUS CONCEPT One C1-150 #9171330 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One C1-150 est un réacteur horizontal à trois zones conçu pour des applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur utilise une technologie avancée de contrôle des procédés pour obtenir une uniformité et une répétabilité optimales des dépôts. Un large éventail de paramètres de processus, tels que la puissance, le débit de gaz et la mesure de la pression, sont surveillés pour garantir la qualité du film. La chambre du réacteur est divisée en trois zones indépendantes d'avant en arrière : la zone de préchauffage, la zone de réaction et la zone de refroidissement. Chaque zone est équipée de sa propre tête de douche, températures et débit de gaz. Les réserves de gaz chaud et froid sont introduites successivement dans la chambre afin de permettre un contrôle précis des paramètres atmosphériques et du moment du processus. Le débit de gaz est équilibré entre ces zones pour atteindre les valeurs souhaitées de pression de gaz, de vitesse, de concentration spatiale uniforme de réactifs et de profil de température uniforme à travers la chambre. Le substrat est déplacé à travers la chambre sur un module de verrouillage de charge. Le module de verrouillage de charge est conçu pour maintenir la pression à un niveau spécifique à l'intérieur du réacteur de sorte que le matériau puisse être transféré en toute sécurité de la chambre à la zone de dépôt sans ventilation. La zone de préchauffage assure que le substrat est à la température désirée avant d'entrer dans la zone réactionnelle. La zone de réaction peut être manipulée pour contrôler la température, le débit de gaz et la pression à l'intérieur de la tête de douche. Le dépôt s'effectue ici au fur et à mesure que les réactifs subissent une réaction chimique à la surface du substrat et que l'épaisseur du dépôt réactif est contrôlée par un contrôle de temps et de puissance. La zone de refroidissement est utilisée pour refroidir le substrat à la température désirée avant de sortir de la chambre de réaction. CONCEPT Le réacteur One C1-150 est un système avancé, permettant une flexibilité et un contrôle précis de la température de dépôt, de la pression, du débit et des concentrations de réactifs. Ceci le rend idéal pour le dépôt de pulvérisateurs et de films conformes pour les applications semi-conductrices. Le C1-150 est approuvé pour une variété de matériaux, y compris l'or, le cobalt, le nitrure de titane et le tantale. Avec son contrôle précis des procédés et l'uniformité des dépôts, il en fait un excellent choix pour les procédés industriels.