Occasion NOVELLUS CONCEPT One C1-D #9135536 à vendre en France

ID: 9135536
Taille de la plaquette: 6"
PECVD system, 6".
NOVELLUS CONCEPT One C1-D est un réacteur haute performance de nouvelle génération conçu par NOVELLUS Systems pour des applications avancées de dépôt et de gravure. Il offre une productivité améliorée et des performances de processus supérieures, permettant une fabrication plus rapide et plus efficace des composants microélectroniques critiques. La conception du réacteur repose sur l'idée qu'il peut être adapté aux besoins spécifiques des procédés de dépôt électrochimique, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Pour tenir compte de cette flexibilité, le réacteur est construit selon une approche modulaire. Cela permet aux utilisateurs de personnaliser le matériel et les paramètres de traitement pour les exigences spécifiques de l'application. Le réacteur dispose d'une conception optimisée d'économie d'énergie qui comprend plusieurs technologies innovantes, y compris le mécanisme Thruster Drive unique, un équipement de contrôle de pression en boucle fermée, des profils de température réglables, et le processus de surveillance en temps réel. Le mécanisme Thruster Drive permet un transport et un traitement cohérents des plaquettes à des niveaux de consommation d'énergie plus faibles. Le système de contrôle de pression en boucle fermée permet d'obtenir une plus grande uniformité et reproductibilité des processus tout en réduisant la consommation d'énergie en permettant un ajustement précis des processus. Les profils de température réglables permettent d'augmenter la vitesse du processus grâce à une uniformité accrue, tout en réduisant la consommation d'énergie. Enfin, les paramètres du processus peuvent être contrôlés à l'aide de l'unité de surveillance embarquée en temps réel, ce qui permet d'assurer un contrôle optimal du processus. La chambre de CONCEPT One C1-D est conçue pour être compatible avec les dimensions standard des plaquettes de l'industrie et la technologie du plasma à couplage capacitif (CCP). La chambre est également équipée d'une source RF refroidie à l'eau unique qui élimine le besoin d'une grande machine de refroidissement externe, tout en offrant une grande uniformité de processus et reproductibilité. De plus, la chambre est intégrée à un outil d'automatisation avancé pour un échange rapide de plaquettes, des champs électromagnétiques uniformes et la détection de défauts. Dans l'ensemble, NOVELLUS CONCEPT One C1-D est un réacteur révolutionnaire à haute performance conçu pour répondre aux spécifications exigeantes des applications avancées de dépôt et de gravure. Il offre des performances de processus améliorées, une conception optimisée des économies d'énergie, et des capacités accrues pour aider à rationaliser la fabrication des composants microélectroniques critiques.
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