Occasion NOVELLUS Concept One-W #293690378 à vendre en France

NOVELLUS Concept One-W est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) conçu pour des applications de recherche. Il est construit sur la plate-forme primée Concept et dispose d'un système unique avec une technologie de processus à basse pression. Ceci profite de la conception du réacteur à paroi chaude, qui crée une uniformité au sein de la chambre et finalement des rendements de processus plus élevés. Le réacteur permet le dépôt de couches minces avec une excellente homogénéité et répétabilité du procédé. En outre, la capacité à haut débit et la combinaison de procédés à basse température et à basse pression permettent l'utilisation de divers gaz précurseurs, ce qui entraîne une diminution des coûts et une amélioration des temps de cycle. Le NOVELLUS CONCEPT ONE W comprend un régulateur de température de précision intégré, des lampes à vapeur mécanique, des sondes de mesure de la température, le contrôle et la surveillance des gaz de procédé, ainsi qu'une pompe turbo à entraînement direct spéciale. Cette pompe assure des débits de vapeur de COV qui réduisent le temps de traitement et sont finalement nécessaires pour des processus répétables à basse pression. En outre, des options de surveillance avancées sont disponibles, y compris le contrôle de l'aspect de vacance conforme et la microscopie électronique à balayage sous vide. Concept One-W dispose d'un large éventail de capacités, ce qui en fait l'un des équipements les plus recherchés, utilisés dans l'industrie de la recherche. Ses applications les plus courantes comprennent le dépôt de couches minces d'alliage, la gravure sélective et la gravure par contact, la création de structures nanométriques et la conception de nanomatériaux personnalisés. En outre, il permet la réalisation de diverses structures de dispositifs microélectroniques avec un haut degré de précision et d'uniformité. CONCEPT ONE W est conçu pour fonctionner dans diverses conditions de procédé, telles que le dépôt à basse température, les processus thermiques rapides et l'utilisation de chauffages résistifs ou capacitifs. Ce système supporte des tailles de substrat de 200mm, protégeant entièrement les plaquettes avec une enceinte surveillée par la température, ce qui améliore la précision et la fiabilité du processus. En conclusion, NOVELLUS Concept One-W est un réacteur MOCVD spécialement conçu pour des applications de recherche. Il est capable de réaliser une variété de processus, et de nombreux avantages sont tirés de ses systèmes avancés de contrôle et de surveillance de la température. En outre, il dispose d'un processus de plaquette unique et peut produire des dispositifs de haute qualité avec une approche basse température et basse pression.