Occasion NOVELLUS CONCEPT One #86630 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur co-pulvérisateur de nouvelle génération qui permet de déposer des couches minces de haute performance, hautement sélectives et peu coûteuses. Cet outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est capable d'étendre la gamme dimensionnelle des substrats avancés, ce qui le rend idéal pour créer des structures de dispositifs de 2 à 500 nanomètres (nm) d'épaisseur. Il est conçu pour créer des couches de haute qualité et permettre une gamme d'options de traitement, telles que la gravure directionnelle ou omnidirectionnelle. Le procédé breveté de NOVELLUS CONCEPT ONE permet un dépôt uniforme dans les directions verticale et horizontale par une seule buse. Ceci permet la création d'un film mince très uniforme et homogène, même sur des substrats complexes ou complexes. L'utilisation de pulvérisations directionnelles plutôt que de bombardements aléatoires entraîne une qualité de topographie de surface significativement plus élevée que les autres processus CVD. Par conséquent, CONCEPT One est idéal pour les applications nécessitant une fabrication précise de composants en couches minces. Le réacteur offre des options flexibles de chargement et de traitement du substrat, permettant une variété de méthodes rapides de nettoyage de surface, gravure, dépôt et planarisation. Des conditions de processus claires et stables sont fournies grâce au logiciel de contrôle de processus NOVELLUS et aux technologies de pression exclusives intégrées. Ses capacités d'automatisation personnalisables réduisent le coût de développement des processus pour les nouveaux clients et améliorent leur temps de cycle global. CONCEPT ONE facilite une approche « verte » du traitement des plaquettes en utilisant sa conception modulaire et économe en énergie pour conserver l'énergie, réduire les émissions et réduire au minimum les déchets dangereux. La technologie de gestion directe de la chaleur du réacteur contrôle précisément la température du procédé et réduit les risques d'endommagement des composants. De plus, le système CVD offre une solution intégrée de nettoyage des panneaux pour réduire l'accumulation de film et expulser les particules contaminantes, tandis que son option basse pression réduit le risque de contamination chimique par l'oxygène et augmente la stabilité globale du procédé. En conclusion, NOVELLUS CONCEPT One offre une qualité de surface supérieure, une large gamme dimensionnelle et des options de chargement et de traitement flexibles, tout en promouvant une approche verte et économe en énergie pour le traitement des plaquettes. Ses capacités d'automatisation intégrées et personnalisables permettent un développement rapide des processus et une production rentable, ce qui en fait une solution idéale pour une gamme d'applications de fabrication de composants en couches minces.