Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9096052 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur de pointe développé par NOVELLUS Systems, Inc. pour des applications de pointe de gravure de silicium. Ce réacteur est doté de la technologie Dynamic End Point Control (DEPC), qui lui permet d'obtenir des taux de gravure considérablement plus élevés, un meilleur contrôle du processus et un meilleur enregistrement de recouvrement pour une amélioration ultime de la production de semi-conducteurs. NOVELLUS CONCEPT ONE utilise la technologie brevetée DEPC qui permet au réacteur de contrôler avec précision le procédé de gravure par ions réactifs assistés chimiquement (CARE), en gérant la vitesse d'introduction des ions dans le procédé et en réagissant à l'évolution des conditions finales pour fournir les meilleures performances du procédé. Cette technologie permet également au réacteur de contrôler et d'évaluer l'état du procédé de gravure en temps réel, d'où des taux de gravure plus élevés et une meilleure précision du procédé. CONCEPT Un réacteur est également doté d'une géométrie de chambre brevetée et à la fine pointe de la technologie qui réduit le bruit gazeux et améliore la stabilité des procédés. Ce réacteur est équipé d'un système d'acheminement rapide du gaz qui facilite l'acheminement rapide et précis du gaz, et d'un contacteur Edgestripet propriétaire qui fournit des bords lisses et de meilleurs profils de gravure anisotrope. Pour une performance ultime, le réacteur CONCEPT ONE peut être configuré avec une variété d'options avancées de contrôle des processus, y compris la surveillance des processus, l'assurance des processus et de la qualité, la collecte des données sur les processus et la gestion des recettes de processus, qui permettent un contrôle total des processus et une efficacité opérationnelle améliorée. Le réacteur supporte également des recettes de procédé avancées pour un large éventail d'applications, augmentant encore la flexibilité et le contrôle du procédé. En conclusion, NOVELLUS CONCEPT One est le réacteur de gravure idéal pour la production avancée de semi-conducteurs, permettant des vitesses de gravure plus élevées, un meilleur contrôle du procédé, un meilleur enregistrement de superposition et une plus grande stabilité du procédé, ce qui en fait l'outil parfait pour améliorer les procédés de fabrication des semi-conducteurs.