Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9113371 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un type de réacteur conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de couches minces. Le réacteur est conçu pour une efficacité maximale, offrant les performances et la productivité les plus élevées pour divers procédés. Il est conçu pour le dépôt de monocouches auto-assemblées (SAM), et peut déposer jusqu'à cinq couches en un seul cycle. Le réacteur est équipé d'une vanne haute performance, d'un équipement de contrôle des solutions (SCS) et de systèmes avancés de contrôle des procédés. NOVELLUS CONCEPT ONE est capable de contrôler la température du substrat, la chimie de réaction et les pressions de dépôt, ainsi que d'autres paramètres. Il est également équipé d'un système de contrôle des gaz de haute précision, qui permet de contrôler les débits de gaz et de vapeur. Le réacteur utilise plusieurs électrodes et sources d'énergie. Cette caractéristique offre une souplesse dans le processus de dépôt, permettant à l'utilisateur d'ajuster facilement la température, la solution, la pression et le débit de gaz pour optimiser le dépôt de la couche mince. CONCEPT One dispose d'une unité de régulation de température avancée qui maintient la température pour divers procédés, tels que le CVD à assistance thermique (TAV), le CVD à assistance par oxygène (OAV) et le CVD à assistance chimique (CAV). La température est régulée par de multiples thermocouples, placés à l'intérieur de la chambre et surveillés en temps réel. Cette machine est supérieure aux régulateurs de température typiques, qui déplacent brusquement la température et nécessitent un recalibrage fréquent de l'outil et des réglages manuels. L'actif de contrôle de solution avancé (SCS) de CONCEPT ONE offre un contrôle inégalé sur la chimie des solutions. Il se compose de deux composantes : l'activation anodique et l'activation cathodique. L'activation anodique permet de précycler le substrat et l'échantillon en fonction du potentiel, de la température et du temps de réaction. L'activation cathodique permet de postcycler le substrat en fonction du potentiel, de la température et du temps de réaction. Ce modèle augmente la fiabilité et la reproductibilité du procédé de dépôt. NOVELLUS CONCEPT Un réacteur est conçu avec un équipement avancé de contrôle des processus qui sert d'interface principale entre l'utilisateur et le réacteur. Il fournit des instructions pour tous les processus, ainsi qu'une rétroaction en temps réel sur les paramètres du processus. Les informations fournies par ce système sont également utilisées pour optimiser le processus de dépôt. L'unité est capable de diagnostiquer les anomalies, de prendre des mesures correctives et de fournir des histogrammes détaillés des processus. Toutes les caractéristiques mentionnées ci-dessus sont réunies pour faire de NOVELLUS CONCEPT ONE un réacteur efficace et hautement productif pour les applications de dépôt chimique en phase vapeur. La machine permet à un utilisateur de contrôler avec précision les paramètres de dépôt pour différents procédés, d'optimiser le procédé et d'augmenter le débit et le rendement du dépôt. Avec ses caractéristiques avancées, CONCEPT One est un réacteur supérieur pour le dépôt de couches minces.