Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9148239 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One
Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT One
ID: 9148239
Style Vintage: 1999
CVD system W CVD Teos 1999 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour permettre aux scientifiques et aux ingénieurs en matériaux de créer des revêtements de couches minces ultra-uniformes et performants. Il est alimenté par la puissante plate-forme CVD NOVELLUS CONCEPT ONE, qui offre un contrôle ultra précis de la température, de la pression et de la composition. Ceci garantit que la composition exacte et l'uniformité du revêtement est atteinte à chaque fois. CONCEPT Un système est capable de fournir un taux de dépôt régulier et régulier ainsi qu'une grande uniformité de l'épaisseur du film. Cela est rendu possible par un certain nombre de caractéristiques, y compris sa buse à film sec, sa conception à double chambre et sa tête électro-optique de nouvelle génération. La buse de film sec incorporable de CONCEPT ONE est unique en ce qu'elle peut être facilement ajustée pour s'adapter à une gamme de processus d'application, tels que la gravure, le dépôt et la pulvérisation. Cela contribue effectivement à ajuster la vitesse de dépôt, tout en permettant des vitesses de dépôt ultra-uniformes. CONCEPT NOVELLUS La conception d'une chambre double a deux objectifs. Tout d'abord, la chambre interne contient un environnement de pression variable qui est utilisé pour contrôler la température du processus de dépôt. Pour ce faire, on utilise de l'argon, de l'azote ou de l'air, selon les propriétés du matériau en cours de traitement. La chambre extérieure de NOVELLUS CONCEPT ONE sert alors de chambre d'environnement, fournissant une atmosphère isolée autour de la buse et réduisant l'effet des changements de l'environnement extérieur sur le processus de revêtement. Cela permet la répétabilité et la cohérence des résultats. CONCEPT One possède également une tête électro-optique innovante. Ceci permet de mesurer et d'ajuster l'intensité du faisceau de revêtement au fur et à mesure de son application, en veillant à ce que la quantité optimale d'énergie du faisceau soit utilisée pour créer le revêtement désiré. On optimise ainsi la vitesse du dépôt et on obtient une grande homogénéité des revêtements. Dans l'ensemble, CONCEPT ONE est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur avancé qui permet aux scientifiques et aux ingénieurs en matériaux de créer des couches minces très performantes et ultra-uniformes. Il est alimenté par la puissante plate-forme NOVELLUS CONCEPT ONE CVD, qui offre un contrôle ultra précis de la température, de la pression et de la composition. Il dispose également d'une buse en film sec embarquable, d'un design à double chambre et d'une tête électro-optique de nouvelle génération, qui contribuent efficacement à créer des revêtements uniformes et de haute qualité.
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