Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9148330 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One
Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT One
ID: 9148330
CVD Systems.
NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur de gravure avancé développé par NOVELLUS Systems, Inc. Il dispose d'un procédé breveté d'immersion par jet, qui est utilisé pour contrôler avec précision l'écoulement des gaz dans une chambre de réaction et graver rapidement les structures sur les substrats. NOVELLUS CONCEPT ONE élimine le besoin d'allumeurs de gravure classiques, permettant de réduire les temps de gravure jusqu'à 60 %. CONCEPT One dispose d'une chambre scellée sous vide, avec plusieurs entrées de gaz et collecteurs d'échappement de gaz. La chambre est équipée d'une entrée de gaz de gravure, et d'un système de diffusion de gaz qui disperse le gaz de gravure dans un débit efficace, uniforme et uniforme. Le gaz de gravure est ensuite piégé dans un blanchet cyclonique, ce qui permet une gravure très uniforme, même du substrat. CONCEPT ONE est un réacteur de gravure à faible coût, avec une rentabilité économique offrant une grande variété de procédés de gravure. Il est équipé d'un contrôleur PLC pour permettre un contrôle précis du processus de gravure, comme le débit de gaz, la température, la pression et les conditions générales de fonctionnement. Cela permet des rendements de procédé optimaux et une qualité de gravure supérieure. Le procédé d'immersion par jet garantit que la zone de gravure à graver est entièrement recouverte de gaz de gravure et que la quantité de gaz utilisée peut être étroitement contrôlée. Le processus se déroule dans un environnement à basse pression et les temps de gravure peuvent être réduits jusqu'à 60 %. NOVELLUS CONCEPT One dispose également de procédés avancés de gravure diélectrique. Ces procédés comportent des plasmas multi-gaz et un champ magnétique dynamique très performant, permettant une qualité de gravure optimale. Le plasma RF réglable permet également un meilleur contrôle du processus, réduisant le besoin de modifications continues. Le Concept 1 offre également une option plasma double source. Cette fonctionnalité permet des processus dynamiques qui sont plus robustes et donnent des gravures de meilleure qualité. Le plasma double source réduit également la nécessité de recharger la chambre de plasma et augmente la productivité de gravure. NOVELLUS CONCEPT ONE est un réacteur de gravure idéal, offrant des temps de réaction rapides, des procédés fiables et un fonctionnement rentable. Il est adapté à un large éventail d'applications industrielles, offrant une gravure de précision des substrats, avec des rendements de procédé optimaux et une qualité de gravure supérieure. CONCEPT One est un réacteur de gravure puissant et économique et est essentiel dans la fabrication de composants et de dispositifs importants utilisés dans presque toutes les industries.
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