Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9194261 à vendre en France

Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT One
ID: 9194261
CVD System.
NOVELLUS CONCEPT One est un nouveau type révolutionnaire de réacteur de traitement de précision qui est largement considéré comme l'outil le plus moderne et le plus polyvalent pour la fabrication, le dépôt et la gravure de plaquettes semi-conductrices. Ce réacteur est largement utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs les plus avancés d'aujourd'hui et est capable de déposer une grande variété de métaux, d'oxydes, de nitrures et d'autres matériaux sur des plaquettes de semi-conducteurs microscopiques. NOVELLUS CONCEPT ONE est alimenté par un équipement de dépôt multi-processus, multi-substrat qui facilite la capacité de processus multiples dans le même outil. Ce processus de déposition de précision compte sur l'utilisation d'un dans - situ, SpectraLIVE™ le système de détection basé sur le laser qui tient compte de gaufrette à gaufrette conséquente et de données de processus de jeu à jeu. Cette unité permet également une grande précision dans le processus de dépôt et permet un contrôle serré du processus avec les matières organiques et inorganiques. Au cœur de CONCEPT One est une nouvelle source de pulvérisation magnétron qui est conçu pour fournir une extrême précision dans le processus de dépôt. Cette source peut être accordée pour assurer le dépôt de matériaux tels que le cuivre, le titane/tungstène et le nickel-phosphore. En outre, cette source est également capable de déposer avec précision des matériaux nitrure-oxyde tels que le nitrure d'aluminium et l'oxyde d'aluminium. La source magnétron permet une gravure ultra fine des motifs de matériaux sur les substrats, permettant la création de structures sous-microns. Cette machine avancée utilise également un contrôle plasma avancé avec son outil populaire de traitement thermique rapide (RTP). Cet actif peut réduire les temps de traitement de près de 75 % par rapport aux méthodes classiques. RTP permet un chauffage uniforme sur le substrat ainsi qu'un recuit rapide des plaquettes. Il en résulte une meilleure couverture des étapes et un débit de traitement plus rapide. Le réacteur CONCEPT ONE est un outil puissant pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs et est bien adapté à la fabrication d'appareils micro-électroniques à basse et haute densité. La combinaison de la source de pulvérisation magnétron et du modèle RTP assure un dépôt extrêmement précis des matériaux qui conduisent à une amélioration des performances et de la fiabilité. Ce réacteur révolutionnaire est l'outil parfait pour tout procédé avancé de fabrication de semi-conducteurs et aidera à amener l'industrie au niveau supérieur.
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