Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9222493 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute vitesse et haute précision. Ce réacteur est conçu pour effectuer un large éventail de processus de dépôt, de gravure et de gravure de dépôt sur plusieurs plaquettes. Il offre une plus grande uniformité et un meilleur contrôle des procédés que les techniques classiques en utilisant l'activation du plasma, les processus à zones multiples et le réglage adaptatif dynamique. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT ONE est composé d'une chambre à vide, d'un équipement d'antenne, d'une turbo-pompe, d'un générateur RF et d'une vanne à fente. A l'intérieur de la chambre à vide, les gaz réactifs, hydrogène, azote et argon sont introduits à une vitesse désirée à travers la vanne à fente et dans la zone réactionnelle. La vanne à fente est entraînée par la pression d'air et peut être réglée pour réguler le débit de gaz d'entrée. La radiofréquence haute fréquence (RF) génère le plasma nécessaire à l'activation du gaz de procédé et est couplée au réacteur par un système d'antenne. L'unité d'antenne est optimisée par une technique de balayage de fréquence. Ceci permet au générateur RF de reconnaître la fréquence de résonance de la machine à antenne, permettant un contrôle précis des paramètres du processus. Une fois le générateur RF couplé à l'outil d'antenne, la pompe turbo molécules est utilisée pour maintenir la pression désirée à l'intérieur de la chambre à vide. La pompe élimine les molécules de gaz de procédé de la chambre et permet un réglage précis de la pression dans la chambre, contribuant à maintenir la répétabilité pendant le processus. Dans la chambre de traitement, le générateur RF produit une énergie d'onde monochromatique qui excite les molécules de gaz de procédé. Les molécules excitées réagissent alors entre elles pour former un film mince sur le substrat. L'interaction entre les espèces plasmatiques, les gaz de procédé et le substrat peut être réglée avec précision en ajustant la polarisation continue et la durée de l'impulsion, ainsi que la pression, la température et le débit des gaz de procédé. CONCEPT Un réacteur est un outil de dépôt polyvalent et à haut rendement qui améliore l'uniformité des procédés et élimine la variabilité entre les plaquettes. Sa configuration de zones multiples et son réglage adaptatif dynamique permettent un contrôle précis et des processus de dépôt de haute qualité de matériaux avancés. Il est idéal pour le développement de produits et de procédés avancés et peut être utilisé pour fabriquer des composants micro-structurés et nano-structurés.