Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9224615 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (PE-CVD) induit par l'infrarouge PECVD/CVD conçu pour permettre le dépôt à basse température de couches de couches minces. Il a été conçu avec une combinaison de caractéristiques, ce qui en fait une plate-forme flexible et fiable pour le dépôt de matériaux dans diverses industries, y compris la microélectronique, l'automobile et l'aérospatiale. Le réacteur se compose de plusieurs composants principaux : la source RF, la chambre de procédé, l'équipement de contrôle de procédé, et le robot de procédé. La source RF est utilisée pour générer la source de plasma utilisée pendant le processus de dépôt. La chambre de procédé est la chambre dans laquelle se produit le dépôt, et elle contient typiquement un porte-substrat, une électrode inférieure et un système de délivrance de précurseurs gazeux. L'unité de contrôle du procédé est utilisée pour contrôler les paramètres du procédé (p. ex. pression, température, débit de gaz) tout au long du processus de dépôt. Le robot de procédé est responsable du chargement et du déchargement des substrats d'échantillons et du transfert des substrats à l'intérieur de la chambre de procédé. Le réacteur est capable d'obtenir un dépôt à très basse température grâce à sa conception unique. L'électrode inférieure utilise des plasmas à basse température, et l'électrode supérieure utilise des plasmas à haute température. Pendant le processus de dépôt, le plasma de l'électrode inférieure est utilisé pour produire une température homogène, ce qui permet des résultats de dépôt uniformes. Le plasma de l'électrode supérieure permet également de réduire la température du point de contact de surface, ce qui réduit encore la température du substrat pendant le processus de dépôt. Afin d'améliorer encore le processus, NOVELLUS CONCEPT ONE est conçu avec une machine avancée de contrôle de processus en boucle fermée. Cet outil utilise un certain nombre de capteurs pour contrôler des paramètres de processus, tels que la position de chaque électrode, la température du substrat, le débit de gaz, etc. Cet actif peut ensuite être utilisé pour peaufiner les paramètres du processus au besoin pour assurer la répétabilité et des résultats de dépôt optimaux. Dans l'ensemble, CONCEPT One est une plate-forme de dépôt fiable et flexible qui permet d'obtenir des résultats de dépôt répétables à très basse température. Sa conception unique, son modèle avancé de contrôle des processus et son fonctionnement sans outil en font un choix idéal pour les applications nécessitant un dépôt rapide et à basse température de couches minces.