Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9255441 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permet la croissance de matériaux à couches minces hautes performances. Il dispose de capacités de processus de pointe de l'industrie et de contrôle de la production très efficace avec un logiciel logique de contrôle avancé. NOVELLUS CONCEPT ONE se compose d'une chambre haute avancée et d'une chambre basse. La chambre supérieure est équipée d'une source de plasma RF/DC basse pression qui utilise des technologies avancées de compensation et de contrôle des rayonnements pour fournir une uniformité exceptionnelle sur la surface de la plaquette. La chambre inférieure est équipée de deux sources de production pour le dépôt direct en phase vapeur. Cela permet un dépôt de couches minces supérieur qui est idéal pour les IC, MEMS, LED, et d'autres dispositifs. CONCEPT One dispose également d'un générateur de radiofréquences (RF) pour gérer les poudres de plasma. Cela aide à contrôler efficacement la qualité de la production, ainsi qu'à minimiser le retrait des produits. La chambre étanche au vide offre de meilleures performances de dépôt et de protection des produits, ainsi que la stabilité du procédé. CONCEPT ONE est conçu pour l'efficacité ultime et le contrôle des processus, lui permettant de travailler avec une gamme de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre, le nitrure de silicium et l'oxyde de silicium. Cela permet aux utilisateurs de déposer des couches minces ou des nanostructures qui répondent à des exigences exigeantes sur l'ensemble des marchés de l'IC et du MEMS. En outre, NOVELLUS CONCEPT One est livré avec des systèmes intelligents de profilage de température et de pression pour améliorer le processus de dépôt. En plus d'une production et de procédés de qualité fiables, NOVELLUS CONCEPT ONE offre également un rapport coût-efficacité exceptionnel. La technologie et la programmation CVD avancées, ainsi que le système efficace de contrôle de la production combinent pour fournir aux utilisateurs un dépôt de couches minces rentable. Cela aide les utilisateurs à réduire les temps de cycle et les coûts des matériaux tout en maintenant une production de qualité supérieure. CONCEPT One est un réacteur CVD fiable et efficace qui permet la croissance de matériaux à couches minces hautes performances. Il est conçu pour l'efficacité ultime et le contrôle des processus et est livré avec une source de plasma RF/DC avancée, deux sources de production et un générateur de radiofréquence. Il dispose également de capacités intelligentes de profilage de température et de pression, de rentabilité et de niveaux de production de qualité qui répondent aux exigences les plus strictes dans les industries IC et MEMS.