Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9266473 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un type de réacteur de dépôt utilisé en dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour former des couches minces sur des matériaux de substrat. Il est conçu avec une technologie de pointe pour permettre une conformité et une uniformité précises des couches sur de grandes surfaces. Le réacteur utilise une combinaison de rafales d'électrons de haute énergie, de photons de basse énergie et de contrôle précis de la température et de la pression pour contrôler le rejet et le mouvement des phases solide et liquide de différents produits chimiques dans les processus CVD. Le réacteur permet un contrôle précis de la température et de la pression en utilisant une chambre de mélange finement ajustée. La chambre de mélange comprend une cuve à vide cylindrique entourée d'un équipement précis d'admission de gaz, de pompes à vide et de capteurs/commandes de température/pression. Ceci permet un contrôle précis des mélanges de gaz réactifs. Un système d'entrée de gaz situé à proximité de la base du réacteur permet d'acheminer avec précision des gaz vers la chambre de mélange. En outre, NOVELLUS CONCEPT ONE utilise plusieurs composants avancés pour permettre le contrôle précis des rafales rapides d'énergie. Cela comprend un canon à faisceau d'électrons, qui produit des rafales d'électrons de haute énergie qui brisent les molécules réactives avant qu'elles n'entrent dans la chambre. Il comprend également une diode électroluminescente (LED) qui produit des photons de faible énergie qui favorisent la réaction des molécules réactives sans endommager les substrats. En fonctionnement, CONCEPT One commence par préparer d'abord les gaz réactifs et le substrat nécessaires. Ensuite, le canon à faisceau d'électrons produit un faisceau focalisé qui brise les molécules réactives avant qu'elles n'entrent dans la chambre de mélange. La machine à LED génère des photons à basse énergie qui favorisent rapidement la réaction des molécules réactives. Enfin, les contrôles précis de température et de pression de la chambre de mélange permettent une répartition uniforme des molécules réactives sur le substrat. CONCEPT ONE réacteur de dépôt présente de nombreux avantages par rapport à d'autres réacteurs CVD. Son contrôle précis de la température assure une conformation uniforme de la couche et une uniformité sur de grandes surfaces sans sacrifier le mélange gazeux réactif. Son canon à faisceau d'électrons et son outil LED réduisent considérablement le gaspillage de temps, permettant un dépôt rapide et efficace sans compromettre les propriétés chimiques du matériau du substrat. Enfin, son atout d'entrée de gaz offre un contrôle précis des gaz, assurant des couches denses et paires.