Occasion NOVELLUS CONCEPT One #9364375 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT One est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe conçu pour améliorer les rendements de production et le débit dans le procédé de fabrication des semi-conducteurs fab. Le réacteur utilise un procédé unique de dépôt en phase gazeuse à basse pression, par lequel différentes formes de composés chimiques sont utilisées pour former des couches de SiO2 protectrices et réactives sur des plaquettes semi-conductrices. Les principales caractéristiques de l'équipement comprennent une chambre de réaction à deux zones, à un étage, un système de soupapes à démarrage souple, une vanne à impulsions programmable et une unité d'injection de gaz pulsé, qui lui permettent de fournir des résultats chimiques et physiques cohérents et de grande qualité. La chambre de réaction est constituée de deux zones distinctes séparées par une série de chicanes pour contrôler l'écoulement du procédé. La première zone est constituée par la zone d'injection de composés chimiques dans la chambre de réaction et la seconde zone par la zone de réaction et de dépôt des composés sur la plaquette. Cela permet aux utilisateurs de mieux contrôler les conditions réactionnelles lors des processus de dépôt et améliore l'efficacité du traitement, raccourcit les temps de traitement et améliore les rendements du réacteur. La machine à soupapes à démarrage doux offre une augmentation progressive de la pression du procédé, ce qui permet une plus grande flexibilité lors du traitement, conduisant à des résultats améliorés de l'outil. Il empêche également les variations potentielles du débit du procédé car il ne peut y avoir d'élévation soudaine de pression à l'intérieur du réacteur. La vanne impulsionnelle programmable est conçue pour injecter des produits chimiques de manière très précise et en temps utile, pour un contrôle précis des conditions de réaction dans la chambre, ce qui améliore l'uniformité de l'épaisseur des plaquettes. La vanne à impulsions, combinée à l'actif d'injection de gaz pulsé, permet aux utilisateurs de retarder précisément la livraison de gaz et de produits chimiques, leur permettant d'ajuster facilement les conditions de traitement afin d'optimiser les performances du dispositif. NOVELLUS CONCEPT ONE a été conçu pour permettre aux utilisateurs d'effectuer des opérations de production à faible et à haut volume, tout en offrant des performances et une fiabilité cohérentes. Le réacteur est capable de traiter un large éventail de tailles de plaquettes, ainsi que des variations de géométrie de plaquettes, donnant aux utilisateurs la flexibilité de produire des dispositifs de différentes tailles et formes. Dans l'ensemble, CONCEPT One est un réacteur CVD très polyvalent et fiable pour la fabrication de plaquettes, offrant aux utilisateurs une efficacité améliorée, des délais de traitement plus courts et des rendements supérieurs.