Occasion NOVELLUS Inova NExT #9163189 à vendre en France

NOVELLUS Inova NExT est une plateforme révolutionnaire de dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). Il est conçu pour fournir des procédés complets avancés pour le dépôt de couches minces hautes performances sur des substrats semi-conducteurs. Cette plate-forme est capable de fournir des capacités exceptionnelles de dépôt en couches minces avec une précision inégalée, un débit élevé et une excellente répétabilité. Inova NExT est un équipement multi-source, multi-cible PECVD qui permet un dépôt précis, rapide et efficace de films diélectriques et conducteurs. Il propose plusieurs nouvelles technologies, dont la technologie de plasma haute densité brevetée, la technologie multi-sources et le contrôle optimisé de la température du substrat. Ces technologies permettent au système d'offrir des performances maximales et une grande uniformité pour le dépôt de films diélectriques et conducteurs minces de qualité supérieure. L'unité combine de nombreuses technologies pour fournir des couches linéaires avancées précisément contrôlées de leurs films. Par exemple, sa technologie de plasma haute densité brevetée lui permet de déposer des couches avec des densités et des conductivités précisément différentes à des étapes et des motifs extrêmement complexes, permettant un potentiel pour des circuits intégrés avancés et d'autres applications. De plus, la machine offre également un excellent contrôle de température au niveau du substrat, permettant le dépôt précis de couches diélectriques à des températures inférieures à 200 ° C Un avantage essentiel de cette capacité est qu'elle permet le dépôt de couches minces très évolutives et stables à des températures élevées sur de longues périodes. NOVELLUS Inova NExT offre également une couverture supérieure, l'uniformité et la conformité des métaux, oxydes et nitrures bien définis pour les procédés avancés de dépôt des métaux. Il comprend une distribution de gaz réactif avancée, un contrôle de température précis et une capacité multi-sources pour produire des couches uniformes avec une excellente adhérence des bords, même sur des virages serrés. Dans l'ensemble, Inova NExT est un outil avancé de PECVD qui fournit un dépôt précis, rapide et efficace de films diélectriques et conducteurs, avec une qualité de film supérieure et un contrôle de température inégalé. Il offre une excellente répétabilité, uniformité et couverture, et peut être utilisé pour divers procédés avancés de dépôt de métaux, permettant des circuits intégrés avancés et d'autres applications.