Occasion NOVELLUS Inova NExT #9236710 à vendre en France
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ID: 9236710
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
PVD System, 12"
2012 vintage.
NOVELLUS Inova NExT (Next Generation Extrusion) est un réacteur de dépôt avancé révolutionnaire conçu pour fournir un contrôle ultra-précis de l'épaisseur du film, une uniformité améliorée des procédés et une vitesse de dépôt uniforme, tout en assurant un comportement des matériaux reproductibles avec des exigences de fabrication à haut volume. Le système utilise le piégeage diélectrique à la source et le contrôle avancé du flux de gaz réactif et inerte pour pulvériser avec précision le matériau de niveau nanométrique sur les substrats avec une extrême uniformité. Utilisant un signal radio fréquence haute fréquence de faible puissance (13,56 MHz) dans une configuration à double chambre avec distribution intégrée de gaz et dispositif de serrage de substrat sous-jacent, NExT permet d'exciter des espèces de gaz réactifs à l'entrée des chambres. La réaction résultante produit un plasma énergétique qui est piégé dans le coeur central du réacteur à l'aide d'une charge sèche piégée dans un matériau diélectrique et répartie uniformément sur la cavité. Le dépôt de matière obtenu sur le substrat est tout à fait uniforme, reproductible et contrôlable. Le générateur RF du réacteur NExT peut être déployé en mode crête ou continu pour fournir l'épaisseur de film désirée et l'uniformité au débit le plus élevé possible. Le système est piloté par le logiciel et fournit des retours en temps réel sur les paramètres liés au piégeage diélectrique, au flux réactif de gaz, à l'arrangement de serrage du substrat et plus encore. En utilisant ces données, on peut créer des recettes et les optimiser avec précision pour obtenir des dépôts de couches ultra minces avec une production minimale de particules et des taux de dépôt élevés. NExT est idéal pour une large gamme d'applications matérielles. Il s'agit notamment des diélectriques haut-k, des condensateurs multi-couches (MLC), des diélectriques bas-k, des barrières et des condensateurs SLIMMD. Avec des topographies d'empilement de mémoire prêtes à la production approchant maintenant 32 couches, ce système ouvre la possibilité de performances et de niveaux d'intégration sans précédent dans une seule filière. Inova NExT offre des avantages significatifs aux fabricants et aux utilisateurs finaux. Ses capacités uniques, combinées à sa capacité à répondre aux exigences de production en matière d'intégrité structurelle des appareils, de performance de puissance et de mise à l'échelle, créent une solution capable de réduire le coût de propriété et d'ajouter de la valeur au produit.
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