Occasion NOVELLUS Inova #100556 à vendre en France

NOVELLUS Inova, est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Elle se caractérise par sa capacité supérieure à produire des couches de matériau ultra-minces supérieures d'épaisseur constante et uniforme, pour des applications telles que les nanodévices haute performance et les puces mémoire. La machine dispose d'un design innovant avec une capacité de pulvérisation intégrée qui contribue à optimiser davantage le processus de dépôt et à éliminer tout niveau de variabilité de l'épaisseur du film, l'uniformité des couches et la précision requise par les dispositifs semi-conducteurs avancés. Le réacteur Inova utilise une conception à deux zones pour accueillir deux températures de processus. La première zone sert à préchauffer le substrat avant introduction dans le procédé CVD, tandis que la seconde zone est la principale zone de traitement CVD. L'utilisation de deux zones de chauffage seulement permet de conserver l'énergie thermique, d'améliorer l'efficacité et de réduire les coûts d'exploitation. Comme le substrat est transféré de la première à la deuxième zone, la variation de température est minimisée, ce qui contribue à éviter les chocs thermiques et les dommages à la surface du matériau. Le réacteur dispose également d'un système breveté de régulation de la température active (ATCS) qui offre une uniformité thermique supérieure sur toute la surface du substrat. En outre, l'ATCS offre un contrôle de processus supérieur grâce à sa surveillance et à son contrôle en temps réel de divers gaz utilisés dans le processus CVD, y compris l'oxygène, le gaz de dépôt, le gaz halogène et d'autres gaz choisis. Avec cette fonctionnalité, les utilisateurs sont en mesure de programmer facilement les recettes de processus à la volée, assurant la stabilité du processus et minimisant les transports difficiles de gaz pendant le processus. En plus de sa conception supérieure, NOVELLUS Inova est également équipé d'une gamme complète d'outils de nettoyage post-processus, tels que le traitement thermique, la gravure ionique et le recuit thermique rapide. Cela permet aux utilisateurs de terminer rapidement l'ensemble du processus, du nettoyage au dépôt, en une seule opération efficace. Cela aide à réduire ou à éliminer le besoin de travail et de ressources supplémentaires. En conclusion, Inova est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu spécifiquement pour l'industrie du traitement des semi-conducteurs. Il permet aux fabricants d'obtenir des résultats supérieurs dans un processus très efficace, grâce à sa conception à deux zones, son système de contrôle actif de la température et une gamme complète d'outils de nettoyage post-processus. En tant que tel, il est le choix idéal pour les fabricants à la recherche d'un outil de dépôt efficace et fiable avec une filtration et une uniformité de procédé supérieures.