Occasion NOVELLUS Inova #293589650 à vendre en France

NOVELLUS Inova est un réacteur de gravure à plasma utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il utilise la radiofréquence (RF) pour créer un plasma à partir d'un mélange de gaz, exposer le substrat au plasma, puis utiliser le plasma pour graver le substrat. Le réacteur se compose d'une conception à quatre chambres avec plusieurs sources de puissance radiofréquence. Les chambres individuelles peuvent être configurées pour différents types de processus de gravure. La chambre principale du réacteur est celle où le substrat est placé pour le traitement. Cette chambre est reliée à une source de gaz, typiquement une conduite d'alimentation en gaz contenant un mélange de différents gaz. Le mélange de gaz, la pression et la température dans cette chambre peuvent être contrôlés pour optimiser le processus de gravure. Le plasma créé dans cette enceinte est confiné et maintenu par des champs magnétiques, et la forme du plasma peut être ajustée. La deuxième chambre du réacteur est constituée de deux sources de puissance RF commandées indépendamment. Les alimentations peuvent être réglées en fréquence et en amplitude pour réguler le plasma. La source d'énergie peut être utilisée pour créer et entretenir de grands plasmas uniformes. La troisième chambre du réacteur est constituée de deux « électrodes étincelantes » qui sont utilisées pour créer un fort champ électrique entre la chambre principale et les sources d'énergie. Ce champ électrique peut être utilisé pour façonner et manipuler le plasma dans la chambre principale. Enfin, la quatrième chambre du réacteur est constituée par un système à vide qui permet de maintenir la pression à l'intérieur de la chambre principale. Il prélève les gaz de la chambre principale une fois la gravure terminée, éliminant ainsi le risque d'exposition accidentelle à des matières dangereuses. Dans l'ensemble, Inova est un réacteur de gravure plasma avancé et fiable qui peut être utilisé pour une grande variété de procédés de gravure. Ses chambres individuelles peuvent être configurées pour différents processus de gravure, et ses sources d'énergie peuvent être utilisées pour générer et manipuler de grands plasmas uniformes. En outre, son système de vide offre l'assurance que les matières dangereuses ne sont jamais exposées à l'extérieur du réacteur.