Occasion NOVELLUS Inova #9178318 à vendre en France
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Vendu
ID: 9178318
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2008
PVD System, 8"
Sputter deposition
Cu Seed
Main system:
Mainframe
Transfer
Load
Aligner
Cool
Degas chamber
Loadlock
(2) LPT2000 SMIF Systems
Handler system:
3-Axis trust control ConMag II robot assy
With ceramic blade (Transfer robot)
AWC BROOKS Mag 7 robot assy
With ceramic end effector (FE Robot)
Process chambers:
Ta
Cu
DMC
Hardware:
Main power distribution
Transformer
AC Control / Generator rack
(4) 9600 Cryo compressors
Mydax chiller
Polycold
Affinity chiller
(4) Dry pumps
Missing parts:
DMC LF Generator
DMC Turbo pump
Cu Chamber water box
Cu Chamber SIOC
Ta Chamber SIOC
Degas EV block
Ta EV Block
PVD Chamber quartz lamp
Loader ion gauge
Aligner lamp
HF Match
Degas table
CIP & Upgrades:
Ta Chamber process kit: SST Process kit
Ta HCM Target: Dual coil Ta with short lip
Damaclean dome shield: Single piece
HCM Cu Target: 3/4" HCM Cu Thickwall target
ESC Chuck: Rev2
Degas stn leak chk port (Front end)
Degas flexline
PVD Chamber flexline (Ta/Cu)
PVD Chamber HCM (Ta/Cu): Metal strain relief
PVD Chamber RGA port
Loadlock ion gauge port extension
PVD Chamber condensation control (Ta/Cu)
Dual loadlocks:
Chord mapping
Cryo baffle plate
Cryo pumps: CTI CRYOGENIC 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
LL Short light curtain
PEC Cassette nests
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Wafer handler / Frontend CHM:
Robot arm: Ceramic
Cryo pumps: CTI CRYOGENIC 8" F & 4"
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Degas station:
Degas station: 4pt Mechanical clamp
AERA FC-7800CD MFC 4 argon: 1.0/20
Cool station:
Standard
AERA FC-7800CD MFC 3 Argon: 1.0/100
Stage O-ring groove size: 0.121-0.124"
Transfer module:
Cryo pump: CTI CRYOGENIC 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Robot: AWC BROOKS Mag 7
Robot end effector: Ceramic
Lid cover: Clear lid
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Damaclean module:
Cylinder source: Ceramic
Gas box: (3) Gases
RF p/s: ADVANCED ENERGY RF 10s & LF 10WC
Plasma shield: Stationary
Pump: Varian V 701 VT
Stage: Non-ESC
Shield kit: Standard DMC non ESC
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Manometer gauge: MKS Inst 627B.1TBD1B 100mT/0.1
AERA F-7800CD MFC 4 H2: 1.0/50
AERA F-7800CDMFC 1 Ar: 1.0/50
Gate valve shield sssy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Ta(N) Chamber:
Cryo pump: CTI CRYOGENIC 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Ar MFC
N2 MFC
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Manometer gauge: MKS Inst 627B.1TBD1B 100mT/0.1
Argon BSG manometer gauge: MKS Inst 750B11TCB2GA
AERA FC-7800CD MFC 3 N2: 1.0/200
AERA FC-7800CD MFC 1 Ar: 1.4/100
MKS UPC 1 Ar: 1.0/10
Shield kit:
Shield support ring, RF FF: Ceramic
RF Plug: Ceramic
Gate valve shield kit not installed
Arc sprayed SST:
Assy, anode, HCM
Shield adapter
Deposition shield
ESC Table shield
Weight clamp, RF
Bottom shield
Source:
DC p/s: CPI 36 KW
D-Coil
M-Coil
Source magnet: Array
Top magnet: Rotating
Target: Ta
ESC Power supply: TREK 684-I
Table:
Assy, table, HCM
POLYCOLD N2 Cooling lines: Vacuum-jacketed
MKS UPC
Stage: ESC With active cooling
Heat exchanger for chilled N2 exhaust
Z-Table
RF Ready
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Cu Chamber:
Cryo pump: CTI CRYOGENICS 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Ar MFC
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Manometer gauge: MKS inst 627B.1TBD1B 100mT/0.1
Argon BSG manometer gauge: MKS inst 750B11TCB2GA
MFC:
AERA FC-7800CD MFC 3 N2: 1.0/200
AERA FC-7800CD MFC 1 Ar: 1.4/100
MKS UPC 1 Ar: 1.0/10
Shield kit:
ESC Clamp: Grit blasted
Assy, anode, HCM: Grit blasted SST
Shield adapter: Grit blasted SST
Gate valve shield kit
Grit blasted, Non RF:
Deposition shield
ESC Table shield
Bottom shield
Source:
DC p/s: CPI 36 KW
D-Coil
M-Coil
Source magnet: Array
Top magnet: Rotating
Target: Cu
ESC Power supply: TREK 684-I
Table:
MYDAX Fluid cooling line: Vacuum-jacketed
MKS UPC
Stage: ESC With active cooling
Z-Table
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Auxiliary subfab equipment:
Cu Chamber chiller: MYDAX 1-VLH7-WB
Ta Chamber chiller: POLYCOLD 152-WC-CE/S2
System DI water chiller: Affinity E series EWA-15DK-GE06CBC0 chiller
Dry pumps: EBARA EV-S20N (High efficiency pump)
Main power distribution: Cutler hammer cabinet C2/Inova
ECR: C2/Inova ECR 208 VAC, (3) racks
2008 vintage.
NOVELLUS Inova est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe développé par NOVELLUS Systems Inc. Cette chambre très avancée contient un certain nombre d'offres qui fournissent une solution de procédé supérieure pour les opérations de fabrication de semi-conducteurs. Inova est une plate-forme évolutive qui offre une large gamme de capacités de processus pour la production avant et arrière de nœuds de processus et de structures de dispositifs avancés d'aujourd'hui. NOVELLUS Inova propose deux solutions CVD distinctes : le Express™ et le Prime. Le Express™ est une solution CVD monobloc à faible vide qui est parfaite pour les procédés à basse température tels que le contre-traitement des couches de matériaux III-V et CMOS, offrant un meilleur coût de propriété. De plus, l'Express est capable de traiter des couches minces et délicates d'oxyde et de nitrure, souvent utilisées dans la planarisation et la localisation de transistors avancés, contribuant à réduire le risque de contamination coûteuse. La deuxième offre, Prime est un système CVD multi-plaquettes à vide, idéal pour les films ultra-minces utilisés pour les finFET et FEOL. La technologie de régulation de température avancée du Prime garantit une répétabilité éprouvée sur toutes vos tailles de lot - minimisant la génération de particules et assurant un dépôt de film parfait. En plus de fournir des capacités de traitement CVD de pointe, le réacteur Inova offre les capacités de mesure et de contrôle de procédé in situ les plus avancées de l'industrie. Ses rayons X dispersifs de longueur d'onde électronique à balayage (SEM-WDX) et sa métrologie optique, avec des paramètres de mesure définis par l'utilisateur, permettent de surveiller et de contrôler tous les paramètres du processus vital en temps réel. Cela permet d'optimiser au maximum le processus de gravure ou de dépôt, et assure une précision de contrôle du processus qui permet d'éliminer virtuellement les erreurs de dimension critique (CD). Le réacteur NOVELLUS Inova offre également des fonctionnalités sophistiquées d'automatisation et de surveillance à distance pour un maximum de temps de fonctionnement et de contrôle des processus. Son interface utilisateur intuitive offre une plateforme efficace pour la création et l'implémentation automatisées de recettes afin de rationaliser votre opération. En outre, ses capacités de télémétrie avancées permettent le dépannage à distance et la résolution de problèmes, contribuant à minimiser les temps d'arrêt. En conclusion, Inova est un réacteur de pointe conçu pour répondre aux exigences rigoureuses en matière de contrôle des processus des structures actuelles de dispositifs à l'échelle nanométrique. Sa gamme de capacités permet aux utilisateurs d'accéder aux dernières capacités de processus et aux fonctionnalités d'automatisation avancées pour un maximum de contrôle et de disponibilité des processus. Ses capacités de métrologie in situ avancées et ses fonctions sophistiquées d'automatisation et de surveillance à distance garantissent une précision maximale de la mise à jour et du contrôle des processus.
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