Occasion NOVELLUS Inova #9204137 à vendre en France
URL copiée avec succès !
ID: 9204137
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
PVD Systems, 8"
2000 vintage.
NOVELLUS Inova est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui se compose de trois composants de coeur : chambre chauffée métallique, équipement précis de contrôle des gaz, et une source de réacteur rotatif. La chambre métallique chauffée est une structure semi-cylindrique en acier inoxydable qui est divisée en deux compartiments : le bas pour le chauffage de substrat et le haut pour le système de turbo-pompage à gaz. Le compartiment inférieur de la chambre chauffée est constitué de grilles perforées avec des électrodes de mandrin électronique, qui agissent comme une plate-forme pour contrôler et moduler la température de chauffage du substrat. Le compartiment supérieur abrite les systèmes d'alimentation en gaz et de turbo-pompage, qui offrent un environnement contrôlé pour les dépôts chimiques en phase vapeur. L'unité de contrôle précis des gaz du réacteur Inova assure un contrôle de haute précision des gaz de procédé lors du dépôt. Il assure un contrôle direct de la distribution du gaz autour du substrat, ce qui peut aider à optimiser la vitesse de formation du film et l'uniformité. La machine de contrôle des gaz comprend des régulateurs de débit massique, des vannes d'arrêt de sécurité, des capteurs de pression, des vannes de mesure de débit et des détecteurs de débit de microbulles. La taille et la forme du substrat à revêtir peuvent être programmées dans le réacteur NOVELLUS Inova. La source du réacteur tournant effectue un mouvement de motif orbital sur le substrat, ce qui assure une couverture uniforme du film désiré. En outre, la pression, le débit et la température de chacun des gaz de dépôt peuvent être contrôlés séparément, ce qui permet le dépôt de films très complexes et complexes. Dans l'ensemble, Inova est un appareil CVD fiable et très précis. Sa combinaison de composants et sa capacité à contrôler avec précision les paramètres du processus de dépôt le rendent idéal pour la fabrication de couches minces avancées. Il a été utilisé dans un large éventail d'applications, y compris les semi-conducteurs, l'affichage, la microélectronique et l'optique. L'évolutivité et la flexibilité du dispositif le rendent également suffisamment polyvalent à des fins de recherche et de développement.
Il n'y a pas encore de critiques