Occasion NOVELLUS Inova #9223198 à vendre en France

NOVELLUS Inova est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour déposer des couches minces sur des plaquettes semi-conductrices pour la fabrication avancée de dispositifs microélectroniques. C'est un outil puissant pour obtenir un dépôt précis, uniforme et répétable de films, qui sont essentiels pour fournir des composants semi-conducteurs haute performance avec des défauts minimes. Inova se compose d'une tête de douche contre-équilibrée par un bras de robot, une chambre de réacteur, un bouclier de diffusion chauffé, et les conduites de gaz de procédé associées telles que l'hydrogène et les gaz contenant du silicium. La tête de douche est une plate-forme à deux positions double face chauffée au faisceau d'électrons et isolée avec des capteurs de température intégrés dans sa base isolée. Le bras du robot est un dispositif à cinq axes qui se déplace dans les directions x, y et z, ainsi que des rotations et des pivots. Il est connecté à la tête de douche et utilisé pour charger les plaquettes directement à partir du système de stockage automatisé du substrat et du système de transfert de processus. La chambre du réacteur est un boîtier en acier inoxydable électro-poli avec une porte de serrure à soufflet étanche. Un écran de diffusion installé à l'intérieur de la chambre contient un anneau chauffé résistivement pour un chauffage précis et uniforme de la surface du substrat. Le blindage est également revêtu de carbure de titane pour le protéger de l'environnement et améliorer encore le cyclage en température uniforme de la surface du substrat. NOVELLUS Inova est un système automatisé de contrôle précis des processus de dépôt. Un contrôleur de mouvement intégré permet d'assurer un chauffage très précis du substrat et un dépôt uniforme sur plusieurs plaquettes. Les conduites de gaz de procédé sont chargées d'alimenter les volatiles nécessaires à la création de couches minces sur un substrat. Le silane (SiH4) et le dichlorosilane (SiH2Cl2) sont les gaz primaires utilisés dans cette plate-forme lorsqu'ils réagissent pour former des films de dioxyde de silicium (SiO2). Ces gaz réactifs sont injectés dans la chambre du réacteur pour des réactions chimiques in situ à la surface du substrat. Une série de régulateurs de pression et de débit massique sont utilisés pour contrôler la livraison de gaz à Inova. Une fois le substrat préchauffé à température optimale, un flux constant de réactifs est activé, et un cycle de température fini est appliqué à l'aide de l'écran de diffusion et du contrôleur de mouvement. NOVELLUS Inova est un outil de dépôt incroyablement puissant et précis, et son fonctionnement automatisé permet un dépôt répétable et uniforme sur plusieurs plaquettes. C'est un outil essentiel dans la fabrication moderne de semi-conducteurs.