Occasion NOVELLUS Inova #9272601 à vendre en France

NOVELLUS Inova est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à plasma révolutionnaire conçu pour maximiser le débit et réduire les coûts pour des applications telles que le dépôt d'optoélectroniques en couches minces, de transistors en couches minces (TFT) et d'autres matériaux avancés pour l'industrie des semi-conducteurs. La source de plasma Inova est une technologie brevetée qui utilise une conception simple et fiable pour produire du plasma énergétique et non thermique et qui peut être adaptée à un large éventail de paramètres plasmatiques et de besoins de budget thermique. La conception unique de ce réacteur offre également une accélération personnalisable des particules et peut fonctionner avec des sources d'énergie RF ou DC. La source de plasma NOVELLUS Inova peut fonctionner avec des pressions allant jusqu'à 6 mTorr et des températures allant jusqu'à 700 ° C pour produire des dispositifs avec des exigences minimales de densité, d'épaisseur et d'uniformité. Le réacteur comporte également un certain nombre de caractéristiques supplémentaires, telles qu'un système de rampe à fréquence et température variables, qui permettent un contrôle supplémentaire de l'environnement plasmatique. Inova peut être utilisé avec pratiquement n'importe quelle chimie du gaz, y compris ceux qui sont pré-combinés pour des applications spécifiques. Alternativement, les chimies binaires et tertiaires des gaz peuvent également être utilisées pour contrôler précisément les effets et les résultats souhaités. Cela permet d'utiliser NOVELLUS Inova dans des applications où la précision et la précision sont de la plus haute importance. La conception unique d'Inova comprend également une fonction d'auto-nettoyage qui permet de retirer les dépôts chimiques du bloc source en quelques minutes. Cela garantit que le bloc reste exempt de contaminants et permet à l'ensemble du processus de rester propre et sans contamination. En outre, NOVELLUS Inova est livré avec une multitude de fonctions et de fonctionnalités qui peuvent être utilisées pour personnaliser la configuration du système à des opérations et applications spécifiques. Par exemple, le logiciel est mis à jour régulièrement pour s'assurer que toutes les nouvelles fonctionnalités sont ajoutées et pour assurer des performances optimales dans les applications les plus exigeantes. En résumé, Inova est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à plasma révolutionnaire qui offre une grande flexibilité, précision et précision pour les applications semi-conductrices. La conception unique offre une large gamme de fonctions de fréquence variable, de température et d'auto-nettoyage qui peuvent être utilisées pour adapter le système à n'importe quelle application spécifique. Enfin, la conception fiable et efficace de ce réacteur garantit que l'ensemble du procédé est propre et exempt de contamination, ce qui le rend idéal pour une gamme d'applications de semi-conducteurs.