Occasion NOVELLUS Inova #9383177 à vendre en France

NOVELLUS Inova est un réacteur de procédé à haute productivité pour l'industrie des semi-conducteurs qui combine un traitement à basse température percée avec un temps de cycle rapide et une grande uniformité. Ses caractéristiques brevetées uniques offrent une plate-forme polyvalente qui permet un traitement fiable de toute la gamme des technologies, du noeud avancé à sub-5 nm. Les capacités des réacteurs Inova sont alimentées par des diagnostics in situ, un contrôle adaptatif et un ciblage avancé des matériaux. Son système RF Impedance Match (RFI) intégré offre un meilleur contrôle des processus dans un bac de wafer sCMOS, tout en offrant une flexibilité maximale pour modifier les exigences des processus. Le réacteur a également été conçu pour supporter un large éventail de substrats, y compris des plaquettes avancées telles que les structures FinFET et 3D. Le réacteur NOVELLUS Inova fonctionne à des températures allant jusqu'à 400 ° C à des pressions allant de 200 à 600 mTorr, ce qui offre un niveau impressionnant de flexibilité de procédé pour la gravure, le dépôt et le recuit. Le réacteur intègre une technologie propriétaire de dynamique des flux de vapeur (VFD) qui permet d'améliorer la conformité des dépôts et l'utilisation de nouvelles chimies de dépôt complexes. Le réacteur Inova dispose également d'une technologie innovante NOVELLUS Inova Pulsation qui réduit le temps de cycle tout en favorisant une meilleure uniformité et une défectuosité réduite. Cette technologie génère une gamme courte et précise d'impulsions en une seconde, ce qui permet d'appliquer des couches minces fiables. Il utilise également une répartition cinétique optimisée des gaz qui assure l'homogénéité des dépôts de matériaux. Le niveau de performance supérieur d'Inova est atteint grâce à son système sophistiqué de gestion de la température et de la pression. Son logiciel de traitement haut de gamme a été conçu pour fournir une rétroaction en temps réel et prédictive concernant le wafer Process Index (PI), un paramètre clé du processus semiconducteur. Les utilisateurs peuvent utiliser le PI pour déterminer la vitesse de gravure précise, la vitesse de dépôt ou la température de la plaquette. Pour améliorer encore les résultats des processus, NOVELLUS Inova offre un certain nombre de fonctionnalités d'optimisation, telles que l'uniformité et le ciblage in-wafer. Ceci, associé à une gamme d'outils logiciels supplémentaires, garantit que les résultats de la plus haute qualité peuvent toujours être obtenus. Dans l'ensemble, Inova est un réacteur de procédé très avancé qui a été conçu pour maximiser la productivité et l'efficacité tout en fournissant le meilleur rendement possible, l'uniformité et la défectivité. Ses capacités de processus automatisés et ses fonctionnalités innovantes en font le choix idéal pour tout processus semi-conducteur.