Occasion NOVELLUS Inova #9390633 à vendre en France
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NOVELLUS Inova est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD), un équipement utilisé principalement dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il offre une uniformité de processus supérieure, une excellente stabilité thermique, et des débits élevés dans les petites géométries. Il est spécifiquement conçu pour permettre le traitement de conceptions de circuits intégrés nano-échelle de plus en plus complexes. La poutre du réacteur Inova est constituée d'une plaque de montage de plaquettes, d'une torche RF, d'une antenne de torche et d'un collecteur de flux de gaz. La plaque de montage de la plaquette aide au montage de la plaquette sur la chambre du réacteur, en aidant à fournir les connexions électriques et les gaz nécessaires. La torche RF chauffe la plaquette, crée un plasma pour le processus de dépôt et injecte les gaz réactifs du collecteur de flux de gaz dans la chambre. L'antenne de la torche tire les ondes radio haute fréquence pour initier et maintenir un champ de plasma pour le processus de dépôt. Le collecteur de flux de gaz recueille les gaz réactionnels de la source et les détourne vers la chambre de réaction. La conception unique de NOVELLUS Inova permet des taux de dépôt élevés et une excellente uniformité des procédés. Les taux de dépôt élevés et l'uniformité améliorée permettent simplement de produire des dispositifs de haute qualité avec moins d'étapes de processus et une productivité plus élevée. Avec deux grandes formes de dépôt - le contrôle de la densité du plasma et la modulation de la fréquence des impulsions plasmatiques - Inova est capable de déposer des films de meilleure qualité que les méthodes classiques et à des températures de processus plus élevées. Il a également intégré l'électronique haut de gamme, y compris la technologie de contrôle des processus distribués, qui permet de traiter les plaquettes plus rapidement et avec une meilleure précision. De plus, son contrôleur en boucle fermée permet l'étalonnage et le contrôle en temps réel du processus de dépôt, assurant en outre que toutes les couches produites par le CVD sont formées avec précision et que le procédé reste cohérent. Le système de réacteur NOVELLUS Inova présente de nombreux avantages, tels que l'amélioration de la qualité des produits et la réduction des temps de cycle, ce qui en fait une solution attrayante pour les fabricants de dispositifs. Inova est un système de traitement efficace et fiable, et a contribué à ouvrir la voie à l'industrie des semi-conducteurs de demain.
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