Occasion NOVELLUS SABRE NEXT 300 #9161711 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9161711
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
Cu ECP, 12"
Software OS: Windows
Non-SMIF
Automation online component: SECE
Wafer type: Notch
Inline flow: Left
Software:
Y2K completion: Yes
WL & RL:
RL library: Left
PPD type: PPD2
Laser: LAM
Stage: Ring chuck
2009 vintage.
NOVELLUS SABRE NEXT 300 est un réacteur de gravure avancé à base de plasma monobloc capable d'applications en gravure profonde. Conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, ce réacteur est utilisé pour la gravure avancée du silicium et d'autres composés pertinents. Le processus de gravure est piloté par un plasma à couplage inductif reconfigurable en champ (ICP) et une densité de puissance RF très élevée conférée par les multiples sources ICP à champ magnétique. Cet équipement plasma produit une large gamme de chimies plasma et de distributions d'énergie pour assurer la précision et des processus de gravure rapides. SABRE NEXT 300 est conçu pour avoir une très faible empreinte et une chambre de processus étroite afin de mieux contrôler les conditions de gravure. Il peut être réglé avec le port auxiliaire NOVELLUS, une interface utilisateur graphique facile à utiliser qui permet aux utilisateurs de configurer facilement les paramètres et de définir les performances du processus. Il dispose également d'un système avancé de distribution de gaz qui permet d'intégrer une gamme de produits chimiques dans le processus de gravure. Cela augmente la flexibilité et permet un meilleur contrôle du processus. NOVELLUS SABRE NEXT 300 est contrôlé avec NOVELLUS Motor Controller, une unité de commande de mouvement de pointe qui permet un contrôle complet des composants mobiles tels que le mouvement des plaquettes, le mouvement de focalisation et les scanners préprocesseurs. Ceci assure la gravure précise et précise de la plaquette. En outre, NOVELLUS Motor Controller prend également en charge de nouvelles fonctionnalités avancées de la chambre de processus, comme une machine de dopage à cassette à injection directe, qui permet un dopage précis. Ce réacteur est entièrement configurable pour diverses applications, ainsi que plusieurs types de substrats dont divers matériaux et géométries. SABRE NEXT 300 est capable de graver avec précision des profondeurs allant jusqu'à 0,5 micron et des processus qui produisent un écart de profil minimal. Le contrôleur PPC + universel permet des mesures de processus précises. NOVELLUS SABRE NEXT 300 est l'un des premiers systèmes de gravure plasma sur le marché, et sa plate-forme de gravure avancée assure la production de résultats de processus étroitement contrôlés et de profils reproductibles. Ce réacteur offre des capacités de traitement fiables et précises, ainsi qu'un débit amélioré et un temps de traitement réduit, ce qui en fait la solution parfaite pour les besoins de gravure avancés.
Il n'y a pas encore de critiques