Occasion NOVELLUS Sabre Next #9281286 à vendre en France

NOVELLUS Sabre Next est un réacteur de dépôt de couche atomique (ALD) de nouvelle génération utilisé pour déposer une ou plusieurs couches de films ultra-minces et conformes sur une variété de substrats. Pour ce faire, on utilise une source de gaz pulsant pour envoyer des espèces dans la chambre du réacteur, où elles réagissent avec le substrat, ce qui entraîne le dépôt de films à l'échelle du nanomètre. Le procédé de dépôt est très reproductible, permettant de réaliser des films dont l'épaisseur, la couverture et la composition peuvent être précisément contrôlées. Sabre Next combine la technologie ALD avec des systèmes informatiques avancés et une ingénierie efficace pour créer une plate-forme qui offre d'excellentes propriétés de film et répétabilité. Il comprend des contrôles intuitifs de l'interface utilisateur et la manipulation automatisée du matériel pour réduire l'intervention de l'opérateur et augmenter le débit. Le boîtier du réacteur est composé de plusieurs parties, dont une chambre principale, un équipement de distribution de gaz avec plusieurs sources de gaz, et un porte-substrat. Le réacteur comprend également un système de chauffage, une unité de refroidissement, une machine à vide et un outil d'échappement. NOVELLUS Sabre Next utilise un atout breveté de distribution de gaz pulsant pour contrôler précisément le dépôt. Ce modèle est constitué d'une série de composants magnétiques, qui créent un champ qui fait circuler les impulsions réactives dans un motif spécifique et prévisible. Il en résulte un dépôt de film uniforme, permettant une composition exacte et reproductible. Sabre Next comprend également des fonctionnalités telles qu'un équipement automatisé de manutention du matériel, la surveillance des processus en temps réel, des points de réglage multi-zones et une tolérance exceptionnelle aux défauts qui réduisent le risque d'erreurs de processus et permettent le contrôle statistique des processus. En outre, le processus peut être facilement adapté à différentes exigences d'application. Dans l'ensemble, NOVELLUS Sabre Next est un réacteur ALD avancé de nouvelle génération qui assure le dépôt répétable et de haute qualité d'un ou plusieurs films nanométriques. Il est adapté à une variété de substrats et d'applications, y compris l'électronique de pointe en couches minces, l'optique, et le dépôt chimique en phase vapeur des métaux.