Occasion NOVELLUS Sabre XT #9058226 à vendre en France
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Vendu
ID: 9058226
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
ECD Plater, 8"
Model #: C2-Sabre
Integrated frame
With (3) plating modules
Phase 3 anode chamber
8" Clamshell drive unit
196 mm Clamshell cup and cone (Phase 1A ceramic cup)
Pulse plating capability
AE Pulse power supply
(3) Additive dosing systems with nowpak
Bath chemistry control algorithm
Central bath reservoir (150 L)
(3) Post-Electrofill modules
Edge bead removal (EBR)
(5) Chambers anneal capability
50-400 C, H2/Forming gas
BROOKS (4) Axes atmospheric dual-end effector robot
BROOKS Accutran front-end robot
Main power panel
Secondary containment
With splash guards and leak detection
Dual waste stream plumbing
Pentium-based CPU
Graphical user interface (GUI)
SECS/GEM compatibility
Currently crated
1999 vintage.
NOVELLUS Sabre XT est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise une conception basée sur les plateaux couplée avec le processus CVD amélioré (ECVD) propriétaire afin d'obtenir une grande uniformité et le débit des films ciblés. La conception optimisée des plateaux de NOVELLUS SABREXT est construite avec deux refroidisseurs thermoélectriques VTEC opposés, permettant une performance optimale et une régulation de la température dans une plage cible étroite. Le plateau est également recouvert d'un matériau résistant à la corrosion, qui protège ses composants internes en fonctionnement. Le procédé ECVD de Sabre XT fonctionne dans un environnement de vide à chambre unique à des températures comprises entre 100 ° C et 400 ° C En fonctionnement, le système injecte des réactifs tels que du gaz silane et de l'ammoniac dans la chambre du réacteur, ainsi que des précurseurs de gaz réactifs qui traversent une torche tournante, ce qui dispense précisément les mélanges gazeux entrants. Cette torche tournante permet une uniformité de dépôt de film de haute précision à l'intérieur de la chambre, où l'épaisseur cible et l'homogénéité sont collectées à travers un certain nombre de systèmes de surveillance optique. SABREXT intègre également plusieurs capacités avancées de surveillance des processus, dont un système de rétroaction continue qui lui permet de contrôler avec précision le débit et le mélange des gaz réactifs. Cela donne à NOVELLUS Sabre XT la capacité d'ajuster automatiquement les réglages afin d'obtenir un dépôt plus uniforme des films ciblés, ainsi que de lui permettre de surveiller toute contamination potentielle dans l'environnement du réacteur. La polyvalence et la fiabilité de NOVELLUS SABREXT en font un choix privilégié pour les applications de fabrication de semi-conducteurs nécessitant une production à haut volume avec une uniformité de processus et de film fiable. Son fonctionnement à l'état solide assure une solution à faible entretien et économique pour la production de puces modernes et d'autres produits semi-conducteurs. En outre, la conception de plateaux résistant à la corrosion de Sabre XT et la facilité d'intégration dans une grande variété de systèmes CVD en font un choix idéal pour les principaux fabricants de puces dans le monde entier.
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