Occasion NOVELLUS Sabre #9105124 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS Sabre est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit d'un réacteur CVD spécialement conçu pour déposer des films ultra-minces d'épaisseur jusqu'à des angströms simples (0,1 nm) sur des plaquettes semi-conductrices. Le réacteur est utilisé pour le dépôt de matériaux tels que métaux de transition difficiles à déposer, polymères ou autres matériaux diélectriques. Le réacteur Sabre est construit avec plusieurs composants qui constituent en combinaison le système de dépôt complet. Les principaux composants comprennent une chambre haute, la chambre de procédé et une chambre basse. Le système est un réacteur CVD à basse pression vertical, utilisant une approche par lots qui permet le dépôt de plusieurs couches, qui sont toutes étroitement contrôlées pour des paramètres exacts requis pour leur épaisseur de film unique. Il est capable de manipuler jusqu'à 8 « et 12 » plaquettes. La chambre supérieure est équipée d'une cage de suscepteur de quartz chauffée, qui assure un chauffage uniforme des plaquettes pendant le processus de dépôt et assure une stoechiométrie précise tout au long du processus. La cage de suscepteur chauffée est également utilisée pour évaporer le matériau source qui se vaporise et la vaporisation du matériau source facilite la sublimation ou la décomposition thermique du matériau source qui se dépose alors sur le substrat. La cage de suscepteur chauffée est reliée à un régulateur proportionnel-intégral-dérivé (PID) qui permet d'assurer une homogénéité optimale des températures de chauffage. Cela est augmenté ou diminué, en fonction des exigences spécifiques du processus de dépôt. La chambre de procédé est remplie d'un mélange de gaz inerte et sert à contenir les espèces chimiques déposées sur la plaquette pendant le processus CVD. Une buse est positionnée au centre de la chambre à vide et sert à introduire des précurseurs et des réactifs dans la chambre. La zone de dépôt est reliée à une pompe de diffusion et permet un écoulement et une manipulation précis des gaz nécessaires au bon déroulement du dépôt. La chambre inférieure est utilisée pour épuiser les produits de réaction et est également reliée à une pompe de diffusion qui est utilisée pour maintenir la stoechiométrie précise pendant le processus de dépôt. Il aide également à évacuer l'un des réactifs restants de l'environnement de la chambre. NOVELLUS Sabre est un réacteur CVD de haute précision conçu pour faciliter le dépôt de matériaux avec des couches extrêmement minces. Sa capacité à produire des couches souhaitées avec des résultats précis et fiables en fait un outil inestimable dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs, permettant la création de produits semiconducteurs supérieurs.