Occasion NOVELLUS Sequel Express #9313087 à vendre en France
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ID: 9313087
System
P166/64M Controller
Signal tower: Front mount type
LCD Monitor, 12.1"
DLCM:
Module
P166/64M Module controller
Cassette transfer: Shuttle type
BROOKS AUTOMATION Magnatran 7 TM Robot, P/N: 003-1600-25
Indexer robot: Motor
CDP2407-2 Animatics
26 Slots arc bar
Auto cassette mapping
MKS 750B11TCE2GK Manometer, 10 Torr
GRANVILLE PHILLIPS 275 Mini convectron
TYLAN ACX 3200 Throttle valve controller
Slit valve type: L/L VAT/CH
(3) 27-10157-00 IO Controllers
CVD 1:
Module
ADVANCED ENERGY 3150274-004 B SE RF Match network
View port left / Right
RF Distribution
Gas distribution
No heat mix bowl
(6) Shower heads
Process chamber ring
MESC Flange
MKS 627A13TBC Manometer, 1000 torr
MKS 627A11TBC Manometer, 10 torr
UE PV48W-14 Vacuum switch, atmosphere
UE E48W-H14 Vacuum switch, 15 torr
VM3200 End point detector, integrated dual wavelength EPD
(3) Digital dynamic 27-10157-00 IO controllers
Throttle valve controller
02-123072-00 Rev A interlock PCB, CVD
P166/64M Module controller
Water flow switch
Gate valve, Hi Vac, 4"
Throttle valve
Spindle mechanism: Ferrofluidic - Bellows type
Process chamber: Vertical 4-line type
Exhaust type: Vertical process chamber
EUROTHERM Temperature controller
Hastings gauge
ADVANCED ENERGY PDX 1400 MF GEN RF Generator, P/N: 27-115617-00 F/R A
ADVANCED ENERGY RFG 5500 Generator rack, P/N: 27-028379-00 F/R C
MFC (AERA):
FC-7800CD, 1SLM, SiH4
FC-7800CD, 5SLM, N2
FC-7800CD, 10SLM, He
FC-7800CD, 10SLM, NH3
FC-7800CD, 20SLM, O2
FC-7800CD, 5SLM, O2F6
FC-7800CD, 20SLM, N2O
FC-7800CD, 10SLM, N2
CVD2:
ADVANCED ENERGY 3150274-004 B SE RF Match network:
View port left / Right
RF Distribution
Gas Distribution
Mix bowl: Temperature setting type
(6) Shower heads
Heater block
Process chamber ring
MESC Flange
MKS 627A13TBC Manometer, 1000 torr
MKS 627A11TBC Manometer, 10 torr
UE PV48W-14 Switch, vacuum, atmosphere
UE E48W-H14 Switch, vacuum, 15 torr
VM3200 End point detector integrated dual wavelength EPD
(3) IOC 27-10157-00 / Ver4.1
Controller, throttle valve
Interlock PCB, CVD Rev A 02-123072-00
P166 / 64M Module controller
Water flow switch
Gate valve, Hi Vac, 4"
Throttle valve
Spindle mechanism: Ferrofluidic - Bellows type
Process chamber: Vertical 4-line type
Exhaust type: Vertical process chamber
EUROTHERM Temperature controller
Hastings gauge
ADVANCED ENERGY PDX 1400 MF GEN RF Generator, P/N: 27-115617-00 F/R A
ADVANCED ENERGY RFG 5500 Generator rack, P/N: 27-028379-00 F/R C
MFC (AERA):
FC-7800CD, 1SLM, SiH4
FC-7800CD, 5SLM, N2
FC-7800CD, 10SLM, He
FC-7800CD, 10SLM, NH3
FC-7800CD, 20SLM, O2
FC-7800CD, 5SLM, C2F6
FC-7800CD, 20SLM, N2O
FC-7800CD, 10SLM, N2
SSD:
MSSD 01-132945-00, MSSD included UPS
AC 208V, 3-Phase, 5-Wires, 50 Hz, 1000 kVA
AC 208V (CVCF) Single phase, UPS 50 Hz, 20 Amps.
NOVELLUS Sequel Express est un réacteur utilisé dans le traitement de nanoparticules pour des applications semi-conductrices et matériaux. L'équipement Sequel Express utilise une configuration de source de plasma horizontale unique avec des supports de substrat verticaux pour créer un environnement précis et propre pour la production de matériaux avancés. Le système est équipé d'un certain nombre de caractéristiques avancées pour assurer des performances et une cohérence élevées, y compris une source de plasma capable d'UV, un injecteur de gaz breveté pour un ajout précis de gaz, et un électroaimant de haute puissance pour un contrôle uniforme du champ magnétique. Le réacteur NOVELLUS Sequel Express présente une conception unique de source de plasma horizontale qui génère un front de plasma du côté supérieur du réacteur vers l'injecteur de gaz. La source de plasma apte aux UV a une longueur d'onde courte inférieure à 119 nm ce qui contribue à produire des particules extrêmement petites à partir des réactifs. Le volume de plasma est maintenu avec un champ magnétique constant, fourni par l'électroaimant de forte puissance. De plus, l'injecteur de gaz permet une atomisation précise de gaz haute pression tels que O2 et N2 lors de la synthèse d'une grande variété de matériaux. Sequel Express dispose également d'un ensemble de contrôles qui permettent à l'utilisateur de programmer et de maintenir avec précision le réacteur et ses processus. Il comprend une alimentation numérique, une tension de référence de grille programmable et une interface utilisateur programmable. L'interface utilisateur permet un contrôle manuel et automatique du réacteur, du débit de gaz, des pressions et des températures. De plus, l'unité offre également une surveillance avancée des paramètres du processus tels que le débit de gaz, la surveillance du plasma, la température, la pression et la présence de contaminants infimes. A l'aide de ces informations, l'utilisateur peut déterminer les meilleurs paramètres pour un type particulier de synthèse de nanoparticules. NOVELLUS Sequel Express est une machine sûre et fiable, conçue pour être utilisée dans les laboratoires industriels. Il est facile à utiliser et nécessite un entretien minimal. En outre, l'outil est facile à nettoyer et offre des capacités supérieures de collecte de particules. Ses caractéristiques avancées et son design efficace font de Sequel Express le choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et de matériaux.
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