Occasion NOVELLUS Speed #9218973 à vendre en France
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ID: 9218973
System
(2) Chambers
System configuration:
Mainframe: NOVELLUS C2 DLCM-S Pet, 8"
CRT Monitor
Local control: Module controller
Communication network: ARCnet LAN
Chamber A & B Position: NOVELLUS C2 SPEED-S Process module
Transfer module: DLCM-S PET
Fab interface:
Standard GEM Interface
Host interface: SECS
DLCM PET
Interface type: Tool controlled PET
Dual-Load lock Cassette Module (DLCM):
Loadlock chamber:
Type: Shrink body integrated with PET
Loadlock assy: Left & Right
Left loadlock: IOC #2
Right loadlock: IOC #3
Cassette present sensor
Auto rotation
Loadlock slit valve o-ring type: Viton
Indexer controller: CE T2 Indexer robot
Gauge: 275 mini convectron
Gas: Nitrogen
Transfer chamber sensor
PEC Station
No wafer out of cassette detector
Integrated cassette sensor
Transfer chamber:
MKS Baratron Loadlock
Robot: BROOKS Mag 7
Robot blade: CERAMIC / Metal
Robot arm type: (2) BROOKS Arm robots
Load lock door: Open / Close sensor indicator
Wafer on blade detector
N2 Vent purge valve
He purge MFC Type: BROOKS
Throttle valve: MKS
Dedicated transfer turbo pump: PFEIFFER TMH 260
DLCM Inert gas lines:
N2 Supply
CDA Supply
He supply
SPEED Chamber A & B Configuration:
Type: NOVELLUS C2 SPEED-S Process module
Frequency type: Dual HF + LF
ADVANCED ENERGY RFG 5500 High frequency RF generator
ADVANCED ENERGY PDX 5000 Low frequency RF generator
Top match: TRAZAR SRN 1-2
Pedestal RF Match: TRAZAR AMU1OE-2 27-118072-00
Dome type: Standard/G10
Pressure switch sensor: VACUUM Switch PV48W-84
Gate valve: VAT
Module controller system: MC1 / MC3
MFC Type: BROOKS
Gas feed: Multi-line drop
Gas 1 MFC 1: Ar 500sccm
Gas 2 MFC 2: O2 500sccm
Gas 3 MFC 3: NF3 1000sccm
Gas 4 MFC 4: SiH4 200sccm
Gas 5 MFC 6: SIF4 200sccm
Gas 6 MFC 8: H2 2000sccm
Gas 7 UPC1: H2 2000sccm
Gas line in connect fitting: VCR Nickel coated
ESC Type: Duratek-IC 8", semi
Temperature probes and controller: NTM 500 C / 500 D
Turbo pump type: MAG W 2200
Manometer type 10 torr: MKS
Manometer type 100m toor: MKS
Throttle valve: MKS Type
Endpoint detector: VERITY SD2048DL
Clean method: Toggle clean
Clean gas: NF3
SPEED USG Process kit:
CERAMIC Guard ring
CERAMIC Process injector tube: 4.13'' Nozzle
CERAMIC Clean injector tube: NOVELLUS
CERAMIC Lift pin: NOVELLUS
Turbo pump screen: Normal screen
Pedestal height: 1.75''
SPEED FSG Process Kit
CERAMIC Guard ring
CERAMIC Process injector tube: 2.5'' Nozzle
CERAMIC Clean injector tube: NOVELLUS
CERAMIC Lift pin: NOVELLUS
Turbo pump screen: Louver screen
Pedestal height: 2.75"
PEC Type: E-PEC Plate
SPEED Calibration unit and jig:
Black body calibration: CI SR40 / SR72
NOVELLUS OEM Dome jig
NOVELLUS OEM Turbo jump jig
Facilities:
SSD: NOVELLUS OEM
Power supply: 3 Phase, 208V
UPS.
NOVELLUS Speed est un réacteur PECVD conçu pour offrir des performances de traitement supérieures pour les applications semi-conductrices. Vestec, qui fait maintenant partie de la famille d'entreprises Lam Research, a conçu cette chambre de procédés innovante dès 1985. Le nom de la chambre indique Vitesse du processus en raison de sa conception unique. Ceci est associé à la capacité de répondre aux exigences les plus élevées des applications de traitement en couches minces. Le réacteur est spécialement conçu pour répondre aux exigences renforcées de la technologie moderne de traitement des semi-conducteurs. La chambre NOVELLUS Speed est construite comme un cadre rectangulaire lourd en aluminium. Il contient un grand projecteur monobloc de faible masse thermique qui améliore l'uniformité sur toute la surface traitée. A l'intérieur de la chambre de pulvérisation se trouve un équipement collecteur de gaz avec jusqu'à quatre flux différents de gaz à doser et à répartir uniformément dans la chambre du réacteur. Ceci assure que les gaz de procédé sont délivrés au substrat de manière extrêmement uniforme. Pour surveiller et contrôler les gaz de procédé à l'intérieur de la chambre, un système de gestion des gaz en temps réel est intégré qui permet de surveiller les flux et de les ajuster au besoin. Speed est également équipé d'une unité de livraison RF avancée qui reste dans les spécifications de la chambre de traitement. Cela offre une robustesse pour le processus, ainsi qu'un contrôle précis de la distribution de puissance. Par ailleurs, le réacteur contient une machine de puissance hexodique bien placée destinée à fournir une puissance supplémentaire en cas de besoin, permettant là encore un contrôle de précision de la puissance introduite dans la chambre. Un moniteur d'épaisseur de film fournit une rétroaction sur l'épaisseur précise du film appliqué sur les substrats, avec une précision de +/- 10 angströms. Le moniteur permet également de détecter les passages éventuels dans le film afin que ceux-ci puissent être corrigés immédiatement. Un autre outil impliqué, NOVELLUS HotTech Process, est conçu pour augmenter la durée de vie utile des composants de la chambre, tels que le suscepteur, le plateau RF, la plaque chaude, et ainsi de suite. Dans son ensemble, NOVELLUS Speed est un réacteur PECVD fiable et capable. Sa construction robuste et ses caractéristiques avancées lui permettent de produire de manière cohérente des architectures en couches minces de haute qualité avec précision et répétabilité, ce qui lui confère un avantage dans le domaine de la technologie de traitement des semi-conducteurs.
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