Occasion NOVELLUS Speed #9262827 à vendre en France

NOVELLUS Speed est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour une productivité et une qualité de film élevées. Il s'agit d'un équipement de dépôt avancé utilisant plusieurs gaz CVD simultanément pour créer des couches de dépôt plus minces, plus denses et plus cohérentes que ce qui peut être réalisé avec des systèmes manuels. La conception et les capacités avancées de ce réacteur révolutionnaire permettent des taux de dépôt de couche élevés, un débit élevé et une uniformité supérieure des plaquettes. La vitesse est alimentée par un système de distribution et de puissance à plasma pulsé. Cette unité est capable de produire une large gamme de puissances et de pressions de gaz plasmatiques de faible à élevée. Ceci permet de contrôler avec précision le dépôt et de réaliser des couches de meilleure qualité. Le générateur de source de plasma intégré utilise une fréquence d'impulsions et un cycle cyclique pour s'assurer que la puissance et la pression correctes sont fournies à la chambre du réacteur pour obtenir les résultats de processus souhaités. La pulvérisation magnétron de graphite ED de NOVELLUS Speed (GMS) permet d'autres techniques de dépôt, y compris la pulvérisation réactive, la gravure multicouche et humide. Le GMS est capable de produire des couches de densité plus élevée, d'augmenter les taux de dépôt et d'améliorer l'uniformité des dépôts tout en réduisant les déchets de matériaux. Le GMS offre jusqu'à dix fois plus d'efficacité d'ionisation que les systèmes classiques de pulvérisation magnétron. Speed est également équipé d'une machine avancée de surveillance des processus qui est capable de mesurer avec précision les paramètres du processus et peut détecter des conditions de processus anormales rapidement et facilement. Cet outil permet de suivre la vitesse de dépôt de chaque chambre du réacteur, l'épaisseur du film, les niveaux de contamination et une multitude d'autres paramètres en temps réel. NOVELLUS Speed utilise la technologie Ebonite Micro-ondes pour assurer un débit et un dépôt de gaz uniformes d'une plaquette à l'autre. Cette technologie utilise des sondes de génération de micro-ondes sophistiquées qui créent un champ de plasma hyperfréquence uniforme à l'intérieur de la chambre rf, permettant une meilleure homogénéité du dépôt et un film plus épais et de meilleure qualité. Ce plasma hyperfréquence a également la capacité de modeler facilement les couches de film pour des structures et des conceptions de dispositifs avancées. Speed est livré de série avec un certain nombre de fonctionnalités automatisées comme un actif de mélange de gaz qui automatise les recettes standard, un modèle de modification de recette en ligne qui suit les changements à la recette, et un équipement de détection des fuites en temps réel qui teste en permanence le système d'échappement pour les fuites. NOVELLUS Speed offre également une fonction d'auto-nettoyage avancée qui peut être activée pour assurer la propreté de la chambre supérieure. Speed offre des performances de dépôt supérieures grâce à sa conception avancée, des systèmes de distribution et d'alimentation efficaces, un champ de plasma hyperfréquence uniforme et des systèmes automatisés de sécurité et de surveillance des processus. NOVELLUS Speed est bien adapté aux dépôts à faible coût et à haut rendement et est un véritable leader dans l'avancement des procédés de fabrication avancés.