Occasion PICOSUN P-300BV #293769705 à vendre en France

Fabricant
PICOSUN
Modèle
P-300BV
ID: 293769705
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2021
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor, 6" Cold source: TMA, H2O TEMAHF Hot source Film type: Al2O3, HfO2 2021 vintage.
PICOSUN P-300BV est un réacteur de dépôt de couche atomique (ALD) ultra-vide (UHV) leader dans l'industrie. P-300BV est conçu et fabriqué par PICOSUN, le premier fournisseur mondial d'équipements ALD. L'équipement utilise un faisceau d'électrons comme source d'énergie pour la croissance du film. PICOSUN P-300BV a une faible empreinte, ce qui le rend idéal pour l'installation dans un espace de laboratoire limité. Il dispose également d'un système optique avancé de surveillance en temps réel pour permettre un contrôle précis du processus. L'unité offre également une température de traitement basse et une excellente uniformité du film. P-300BV convient pour le dépôt de couches homogènes ultra-minces d'oxydes métalliques complexes, de nitrures et d'empilements de couches minces sous vide ultra-élevé. PICOSUN P-300BV est une machine très efficace qui est capable d'un large éventail de techniques de traitement telles que l'ALD thermique et plasma. L'outil comprend un actif réactif d'injection de gaz, permettant le dépôt de films à base de réactions chimiques précises entre les précurseurs gazeux et le substrat. P-300BV est conçu pour fournir un maximum d'efficacité de procédé et d'uniformité de la qualité du film. Le modèle est équipé d'une conception de chambre polyvalente et d'un équipement d'injection qui peut fournir des doses contrôlées de précurseurs. Le système dispose également d'une unité de manipulation robotique intégrée qui facilite le positionnement précis des échantillons. En outre, la machine dispose également d'un outil de surveillance optique in-situ de haute précision, permettant des mesures en temps réel de la qualité du film. PICOSUN P-300BV offre également une gamme complète d'outils logiciels, qui peuvent être utilisés pour surveiller et contrôler les paramètres du processus de dépôt tels que la température, la pression, le débit et l'épaisseur du film. Ces outils logiciels peuvent être utilisés pour optimiser les paramètres de processus afin de créer des films uniformes et de haute qualité. Enfin, P-300BV est conçu pour un entretien et un fonctionnement faciles avec un large éventail de caractéristiques de sécurité pour assurer la performance de l'actif. PICOSUN P-300BV est conçu pour offrir des performances fiables et répétables pour une variété de processus ALD. Avec ses caractéristiques avancées et ses performances robustes, P-300BV est un excellent choix pour tout procédé ALD sous vide ultra-extrême.
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