Occasion PICOSUN P300 #293628601 à vendre en France

PICOSUN P300
Fabricant
PICOSUN
Modèle
P300
ID: 293628601
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor.
PICOSUN P300 est un réacteur de gravure ionique réactif avancé conçu pour les applications de traitement des submicrons profonds. Elle est particulièrement utile pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs comprenant des transistors à effet de champ, des circuits intégrés et des MEMS. La P300 est basée sur la même technologie utilisée dans les systèmes RIE de qualité industrielle PICOSUN, garantissant ainsi des performances de haute qualité, un fonctionnement fiable et une excellente répétabilité des processus. Le réacteur est basé sur une source de plasma avec une chambre entraînée par engrenage, ce qui permet une excellente homogénéité et répétabilité du procédé même dans les applications de gravure difficiles. Le PICOSUN P300 dispose d'un équipement d'injection de gaz multi-canaux avec des capacités de mélange de gaz, de bullage et d'injection pulsée. Il possède également l'une des plus grandes tailles de chambre standard de tout système RIE dans sa catégorie, mesurant jusqu'à 500 x 400 x 200 mm. L'unité de turbo-pompage automatisée de la P300 assure des performances de chambre de processus sans compromis, permettant des pressions de base extrêmement basses et un conditionnement rapide. Pour un contrôle de processus polyvalent, la machine PICOSUN P300 comprend un poste de travail CAO sophistiqué et un logiciel intuitif. Le poste de travail CAO permet aux utilisateurs de tracer des recettes de gravure et d'effectuer rapidement le réglage des processus. Le logiciel tiers peut être facilement intégré pour étendre les options de contrôle, et le panneau tactile convivial du réacteur simplifie le fonctionnement et assure une traçabilité complète de toutes les étapes du processus en amont et en aval. P300 est parfaitement adapté à la fabrication de structures 3D et 2.5D. Il est doté de sources de résonance cyclotron électronique (ECR) et de sources de plasma à couplage inductif (ICP), ce qui permet aux utilisateurs de contrôler avec précision la profondeur de gravure et la sélectivité. Le traitement plasma à haute énergie des couches diélectriques et métalliques peut être réalisé en ajoutant une source additionnelle de N2 ou de O2, doublant ainsi les capacités de l'outil. La construction robuste et la conception brevetée de PICOSUN P300 garantissent des performances supérieures et des processus fiables. Il dispose de capacités de refroidissement supérieures pour assurer des résultats cohérents et reproductibles, et ses dispositifs de sécurité automatisés protègent les utilisateurs et la chambre de processus contre les dommages ou les dysfonctionnements potentiels. En outre, PICOSUN offre également des services après-vente tels que la maintenance et la mise à niveau, ce qui permet aux utilisateurs de maintenir leurs systèmes à jour sans avoir besoin d'un remplacement complet des actifs. Cela garantit que les utilisateurs fonctionnent toujours avec les dernières avancées technologiques, permettant des solutions de traitement les plus efficaces et efficientes. Dans l'ensemble, P300 est un choix idéal pour toute application de gravure submicronique. Ses fonctionnalités d'automatisation avancées et sa technologie révolutionnaire garantissent des performances supérieures, l'uniformité et la répétabilité des processus, tandis que sa construction robuste et son logiciel personnalisable en font un choix idéal pour les professionnels de l'industrie des semi-conducteurs.
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