Occasion PICOSUN R-200 #293618159 à vendre en France

PICOSUN™ PICOSUN R-200 est un équipement avancé de traitement ALD (Atomic Layer Deposition) conçu pour des applications de revêtement de surface à haute uniformité et à haut débit à l'échelle de la production industrielle. Ce système est conçu pour répondre aux exigences de haute qualité des applications industrielles et de recherche telles que les surfaces réfléchissantes, les surfaces conformes, les revêtements optiques et les couches minces pour diverses applications. PICOSUN™ Le réacteur PICOSUN R 200 est basé sur une architecture modulaire permettant une flexibilité et une évolutivité qui permet à l'utilisateur de personnaliser l'unité en fonction de ses besoins spécifiques. La machine peut être équipée d'une large gamme de composants standard et reprogrammée pour répondre aux exigences uniques du client. Les composantes principales de réacteur R-200 incluent un générateur, reactants, une chambre de réaction, substrate le détenteur et le pot d'échappement. Le générateur fournit des gaz réactifs à la chambre de réaction en quantités précises, assurant une grande répétabilité lors du revêtement. Un outil d'échappement sous vide élimine les sous-produits de réaction après chaque cycle, permettant des temps de processus rapides et des résultats fiables. Le réacteur R 200 a une conception compacte et sans entretien qui est facile à installer et nécessite une maintenance minimale. La chambre de réaction et le support de substrat sont en acier inoxydable de haute qualité et sont conçus pour assurer la propreté et la durabilité. PICOSUN™ Le réacteur PICOSUN R-200 est conçu pour une production à plus grande échelle et est capable de revêtir des substrats de dimensions allant jusqu'à 200mm et 1000 x 1500mm. Il offre des capacités de débit élevé avec une charge maximale de la chambre jusqu'à 80 % et des temps de cycle ALD jusqu'à 59 secondes. Il offre une grande homogénéité de croissance du film avec une homogénéité de chambre inférieure à ± 2 % et une uniformité d'épaisseur ± 1 nm. Le réacteur PICOSUN R 200 est capable de manipuler un large éventail de films de céramique, métaux, oxydes complexes, nitrures et germanides. Il offre une croissance rapide, fiable et répétable des films pour une industrie de revêtements très exigeante. L'atout est adapté à diverses applications de recherche et industrielles, et fournit une qualité de film supérieure, répétabilité et performance pour toutes les applications de revêtement de surface.