Occasion PICOSUN R-200 #9283497 à vendre en France

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Fabricant
PICOSUN
Modèle
R-200
ID: 9283497
System With Manual loadlock Does not include plasma Precursors: (6) Lines R.T. X 3 Precursor with heating units: (2) PH200 PH300.
PICOSUN R-200 est un réacteur avancé, modulaire et convivial de dépôt de couche atomique (ALD). Il est conçu pour la production industrielle à grande échelle de couches minces de divers matériaux, tels que des matériaux avec des nanostructures et divers matériaux d'oxyde. PICOSUN R 200 a une conception modulaire, permettant d'utiliser un certain nombre de modules de processus pour créer des modules de processus spécifiques avec une faible empreinte. R-200 contient également un équipement de chauffage/refroidissement, avec une température allant jusqu'à 1000 degrés Celsius flexibilité. R 200 est un système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) en chambre fermée qui a été développé pour le dépôt en grande surface de couches minces et uniformes de divers matériaux. La chambre est réalisée avec un matériau céramique inerte et non conducteur. A l'intérieur, une entrée et une sortie de gaz permettent une compatibilité facile avec les précurseurs spécifiés sur mesure. PICOSUN R-200 est équipé d'une unité informatique avancée qui permet aux chercheurs de surveiller et de contrôler les paramètres de réaction tels que la température, le temps de réaction, le débit de gaz, la pression et la composition du gaz. Les paramètres du processus peuvent être réglés avec une précision de +/-0,05 deg C pour produire des films minces cohérents de haute qualité. Les gaz précurseurs sont introduits de manière cohérente dans la chambre de dépôt, en contrôlant la vitesse de dépôt et en assurant l'uniformité. PICOSUN R 200 offre une plate-forme efficace, fiable et économique pour contrôler les paramètres et assurer un processus de dépôt précis. En cas d'urgence, la machine de sécurité du R-200 réduira la pression au niveau de sécurité des fuites, fermera le gaz et évacuera l'air de la chambre. R 200 est conçu pour la production de masse et peut traiter jusqu'à 60 plaquettes à la fois. La zone adressable pour les dépôts d'échantillons est au maximum de 300 mm x 300 mm. Le mécanisme de chargement d'une seule plaquette assure un processus sûr, assurant des films uniformes sur l'ensemble de la plaquette. PICOSUN R-200 fournit une solution de revêtement sûre et fiable pour la recherche et les besoins industriels. Dans l'ensemble, PICOSUN R 200 est un outil de réacteur ALD fiable, efficace et avancé. Avec sa technologie de pointe et son contrôle de processus de haute précision, R-200 est idéal pour la production industrielle à grande échelle de films minces de divers matériaux.
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