Occasion PICOSUN Sunale R 200 #9182976 à vendre en France

PICOSUN Sunale R 200 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) polyvalent utilisé pour le dépôt de couches minces. Il est conçu pour créer des revêtements extrêmement minces et de haute qualité, ainsi que pour permettre l'oxyde d'étain d'indium (ITO) et les couches antireflet sans macrovoïdes. Il peut également être utilisé pour l'impression 3D et les revêtements en carbone diamant (DLC). Le Sunale R 200 est un équipement compact, robuste et autonome. Il est équipé d'un système avancé de contrôle automatique de l'épaisseur du film (AFTC) qui offre une répétabilité supérieure de l'épaisseur et de la qualité du revêtement. Le réacteur offre également des taux de dépôt élevés et une grande stabilité du procédé. Il est capable d'obtenir une croissance uniforme et sans défaut de couches minces pour des procédés à haute et basse température. L'unité a un débit élevé, et convient pour des applications de dépôt de volume élevé. En outre, il est capable de travailler avec de grands substrats, jusqu'à 200 par 500 mm ou une seule plaquette 400 par 500 mm. Sa conception avancée de chambre à vide se spécialise dans le dépôt uniforme de films épais, nécessitant une purge minimale de chambre. En outre, la machine dispose d'un outil d'échappement automatisé qui assure des purges précises jusqu'à 10 mbar en quelques secondes. PICOSUN Sunale R 200 est équipé d'un pyromètre ultra-violet (UV) à haute température qui aide à contrôler les profils de température et l'uniformité dans la chambre. L'actif dispose également d'un thermomètre optique qui mesure la température aux parois de la chambre, contribuant à assurer la sécurité et un chauffage uniforme. Il comporte également une fenêtre d'introduction de gaz inerte qui permet l'introduction de gaz inertes pour les processus de croissance qui nécessitent des gaz supplémentaires pour le dépôt. Le Sunale R 200 est bien équipé pour une gamme d'applications CVD, offrant une qualité supérieure pour le dépôt de couches minces. Il offre des taux de dépôt élevés et une stabilité de procédé supérieure, et son modèle AFTC automatisé assure une excellente fiabilité de lot à lot. L'équipement d'échappement automatisé, ainsi que la fenêtre d'introduction de gaz inertes, assurent des processus précis et un débit élevé. Le système est très polyvalent, permettant le dépôt d'une grande variété de couches minces, y compris l'oxyde d'étain d'indium et les revêtements de carbone diamant.