Occasion PLASMATHERM LAPECVD LMTM #9382228 à vendre en France

PLASMATHERM LAPECVD LMTM est un réacteur avancé à basse pression, à basse température, à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) amplifié par plasma hyperfréquence. LAPECVD LMTM est un réacteur CVD à absorption avancée unique qui se distingue par ses performances à basse température et pression. Les capacités basse température et pression du réacteur sont rendues possibles par l'utilisation d'un gaz d'alimentation en plasma micro-ondes généré dans la chambre de réaction elle-même. Cela permet un meilleur contrôle du processus de dépôt. Le réacteur comporte une chambre cylindrique en acier inoxydable avec une zone chaude de sortie de 4 pouces, une zone froide de 2 pouces et un générateur hyperfréquence à fréquence variable situé sur un bras mobile. Il est équipé d'un tube en quartz contenant des fenêtres hyperfréquences et d'un système de chargement supérieur. Le système de charge supérieure est composé de quatre plaques semi-sphériques qui peuvent être ajustées ensemble afin de contrôler le processus de dépôt. Le gaz d'alimentation en plasma est introduit dans la chambre de réaction à débit contrôlé par l'intermédiaire d'une vanne à fente. Le flux de gaz d'alimentation est alors dirigé vers un diffuseur qui homogénéise à son tour le plasma à l'intérieur de la chambre. Le diffuseur joue également le rôle de régulateur de pression, permettant le fonctionnement de la chambre aussi bien en régime basse pression qu'en régime haute pression. Une alimentation en courant continu (courant continu) est utilisée pour contrôler les propriétés du gaz d'alimentation en plasma. En appliquant une tension de polarisation négative, les électrons seront accélérés vers les substrats, ce qui se traduira par une réactivité accrue et des taux de dépôt améliorés. Le générateur hyperfréquence est couplé à un module de maintenance plasma, qui aide à maintenir le champ plasma aux paramètres de fonctionnement désirés. Une fois correctement ajustées, les propriétés de résonance du plasma peuvent être maintenues dès le démarrage et tout au long du processus. Ceci assure un dépôt plus uniforme des films solides sur les substrats. PLASMATHERM LAPECVD LMTM est capable de produire des couches minces de haute qualité sur une large gamme de substrats. Parmi les applications possibles, on peut citer le dépôt d'oxydes, de nitrures, de revêtements préventifs et d'alliages. Sa polyvalence et ses performances fiables en font un excellent choix pour presque tous les procédés de dépôt.